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1. (WO2015101110) ÉLÉMENT DE CONTACT D'INTERRUPTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/101110    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/090915
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 12.11.2014
CIB :
H01H 1/021 (2006.01)
Déposants : NANTONG MEMTECH TECHNOLOGIES CO., LTD [CN/CN]; No.1 Building A, Yongxin Road South, Gangzha Economic Development Zone Nantong, Jiangsu 226000 (CN)
Inventeurs : HAN, Huisheng; (CN).
ZHANG, Hongmei; (CN).
CHEN, Yuan; (CN).
DING, Yang; (CN).
WU, Guoqiang; (CN)
Données relatives à la priorité :
201310748955.0 31.12.2013 CN
Titre (EN) SWITCH CONTACT ELEMENT AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) ÉLÉMENT DE CONTACT D'INTERRUPTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 开关触点元件及其制备方法
Abrégé : front page image
(EN)A switch contact element, having a layered structure comprising three layers: the bottom layer is silicone rubber, the middle layer is a continuous base metal sheet layer, and the upper layer is a discontinuous (stripe-shaped, raised-point-shaped or lattice-shaped) precious metal plated layer or a double-metal composite layer of a discontinuous base metal plated layer and a precious metal plated layer. The width of each stripe is 0.05-2 mn, the distance between the stripes is 0.2-2 mn, the diameter of a top surface of each raised point is 0.2-2 mn, the distance between the raised points is 0.05-1 mn, and the area of holes between the lattices is 0.05-5 mm2. The thickness of the bottom layer is greater than that of the middle layer, the thickness of the middle layer is greater than that of the upper layer, and the thickness of the upper layer meets the conditions that the conductive current is greater than safe current of conductive contacts on a circuit board, and the service life of a switch for the design is ensured. A preparation method for the switch contact comprises a process of preparing a local plating blocking layer which is removed by preferably selecting an alkaline solution dissolving method. The switch contact element has desirable current conducting stability, dust fastness and oil stain resistance and relatively low raw material cost.
(FR)L'invention concerne un élément de contact d'interrupteur, ayant une structure en couches comprenant trois couches: la couche inférieure est un caoutchouc de silicone, la couche intermédiaire est une couche de feuille de métal commun continue, et la couche supérieure est une couche de revêtement de métal précieux discontinue (en forme de bandes, en forme de points surélevés ou en forme de treillis) ou une couche composite bimétallique composée d'une couche de revêtement de métal commun discontinue et d'une couche de revêtement de métal précieux. La largeur de chaque bande est de 0,05-2 mm, la distance entre les bandes est de 0,2-2 mm, le diamètre d'une surface supérieure de chaque point surélevé est de 0,2-2 mm, la distance entre les points surélevés est de 0,05-1 mm, et l'aire de trous dans le treillis est de 0,05-5 mm2. L'épaisseur de la couche inférieure est supérieure à celle de la couche intermédiaire, l'épaisseur de la couche intermédiaire est supérieure à celle de la couche supérieure, et l'épaisseur de la couche supérieure satisfait les conditions qui sont que le courant de conduction soit supérieur au courant de sécurité de contacts conducteurs sur une carte de circuits imprimés, et que la durée de vie d'un interrupteur de ce modèle soit assurée. Un procédé de fabrication du contact d'interrupteur comprend un processus de préparation d'une couche de blocage de revêtement locale qui est retirée en choisissant de préférence un procédé de dissolution par solution alcaline. L'élément de contact d'interrupteur possède des propriétés souhaitables de stabilité de conduction de courant, de résistance à la poussière et de résistance aux taches d'huile, et un coût en matières premières relativement bas.
(ZH)一种开关触点元件,具有三层的层状结构:底层为硅橡胶;中间层为连续的贱金属薄片层;上层为不连续(条紋状、凸点状或网格状)的贵金属鍍层或者为不连续的贱金属鍍层和贵金属鍍层的双金属复合层。条紋的宽度为0.05-2mn,条紋之间的间距为0.2-2mn;凸点的顶面直径为0.2-2mn,凸点之间的间距为0.05-1mn,网格之间的孔洞面积为0.05-5mm2。底层的厚度大于中间层,中间层的厚度大于上层;上层的厚度满足以下条件:保证能够导通的电流大于电路板上导电触点的安全电流,保证设计需要的开关寿命。所述开关触点的制备方法中具有制备局部阻鍍层的工序,该局部阻鍍层优选采用碱性溶液溶解的方法除去。所述开关触点元件,电流导通稳定性好,耐尘性、耐油污性好,原材料成本较低。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)