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1. (WO2015100968) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ POUR PRÉPARER UN MODÈLE DE POINT QUANTIQUE À PARTIR DE CETTE DERNIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/100968    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/080493
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 23.06.2014
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd. Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : GU, Jingxia; (CN).
SHU, Shi; (CN).
ZHANG, Feng; (CN).
HUI, Guanbao; (CN)
Mandataire : DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 10F, Bldg.2, Maples International Center No.32 Xizhimen North Street, Haidian District Beijing 100082 (CN)
Données relatives à la priorité :
201310744287.4 30.12.2013 CN
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PREPARING QUANTUM DOT PATTERN FROM SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ POUR PRÉPARER UN MODÈLE DE POINT QUANTIQUE À PARTIR DE CETTE DERNIÈRE
(ZH) 感光性树脂组合物及使用其制备量子点图案的方法
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive resin composition and a method for preparing a quantum dot pattern from the photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition comprises quantum dots which are dispersed in the photosensitive resin composition and are respectively provided with a modified layer. The method for preparing the quantum dot pattern from the photosensitive resin composition comprises: with the photosensitive resin composition as a photoresist, carrying out coating, exposure and development to obtain the quantum dot pattern. The method for preparing the quantum dot pattern from the photosensitive resin composition has advantages that the preparation process is simple, and the pattern is fine, stably bonded to the substrate, and not easy to fall off, and has high resolution and the like. In addition, mass production can be realized based on existing equipment, so that the application potential of quantum dots is greatly improved.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible et un procédé pour préparer un modèle de point quantique à partir de la composition de résine photosensible. La composition de résine photosensible comprend des points quantiques qui sont dispersés dans la composition de résine photosensible et comportent respectivement une couche modifiée. Le procédé pour préparer le modèle de point quantique à partir de la composition de résine photosensible consiste : en utilisant la composition de résine photosensible comme résine photosensible, à réaliser un revêtement, une exposition et un développement pour obtenir le modèle de point quantique. Le procédé pour préparer le modèle de point quantique à partir de la composition de résine photosensible a les avantages suivants : le processus de préparation est simple, et le modèle est fin, relié de manière stable au substrat, et ne peut pas se détacher facilement, et a une haute résolution et analogues. En outre, une production de masse peut être réalisée sur la base de l'équipement existant, de telle sorte que le potentiel d'application de points quantiques est considérablement amélioré.
(ZH)一种感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法。感光树脂组合物,包括分散在其中的具有修饰层的量子点。用感光树脂组合物制备量子点图案的方法包括以该感光树脂组合物作为光刻胶,通过涂覆、曝光、显影得到量子点图案。用感光树脂组合物制备量子点图案的方法具有制备工艺简单,图形精细,与基板结合稳定,不易脱落,分辨率高等优点;并且基于现有的设备,可实现量产,大大提高了量子点的应用潜力。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)