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1. (WO2015100912) SUBSTRAT MATRICIEL, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET SON PROCÉDÉ DE RÉPARATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/100912    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/077470
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 14.05.2014
CIB :
H01L 21/77 (2006.01), H01L 23/50 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
HEFEI BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.2177 Tonglingbei Road Hefei, Anhui 230012 (CN)
Inventeurs : KIM, Jaikwang; (CN).
YOON, Yongjun; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Données relatives à la priorité :
201310753770.9 31.12.2013 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD AND REPAIR METHOD THEREFOR, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT MATRICIEL, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET SON PROCÉDÉ DE RÉPARATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置
Abrégé : front page image
(EN)An array substrate, and a manufacturing method and a repair method therefor. The array substrate comprises: gate lines (G1, G2), a first data line (D1), a second data line (D2) and several pixel units (3) defined by intersections of the gate lines (G1, G2), the first data line (D1) and the second data line (D2). The first data line (D1) is used to drive odd-numbered pixel units within a same column of pixel units. The second data line (D2) is used to drive even-numbered pixel units within a same column of pixel units. For each column of pixel units (3), a repair line (1) is arranged within the area of at least one row of pixel units. The two ends of the repair line (1) project respectively to coincide with the areas of the first data line (1) and the second data line (D2) of a same pixel column, and are isolated from the first data line (D1) and the second data line (D2). The present array substrate, and manufacturing method and repair method therefor have the advantages of high repair rate, simple and convenient repairing, and positive economic benefits.
(FR)La présente invention concerne un substrat matriciel, et son procédé de fabrication et son procédé de réparation. Le substrat matriciel comprend: des lignes de grille (G1, G2), une première ligne de données (D1), une seconde ligne de données (D2) et plusieurs unités de pixel (3) délimitées par des intersections des lignes de grille (G1, G2), de la première ligne de données (D1) et de la seconde ligne de données (D2). La première ligne de données (D1) est utilisée pour attaquer des unités de pixel impaires dans une même colonne d'unités de pixel. La seconde ligne de données (D2) est utilisée pour attaquer des unités de pixel paires dans une même colonne d'unités de pixel. Pour chaque colonne d'unités de pixel (3), une ligne de réparation (1) est agencée dans la zone d'au moins une rangée d'unités de pixel. Les deux extrémités de la ligne de réparation (1) font saillie respectivement pour coïncider avec les zones de la première ligne de données (D1) et de la seconde ligne de données (D2) d'une même colonne de pixels, et sont isolées de la première ligne de données (D1) et de la seconde ligne de données (D2). Le présent substrat matriciel, et son procédé de fabrication et son procédé de réparation, ont les avantages d'offrir un taux de réparation élevé, une réparation simple et commode, et des avantages économiques positifs.
(ZH)一种阵列基板、阵列基板的制作方法及修复方法,阵列基板,包括:栅线(G1,G2)、第一数据线(D1)、第二数据线(D2)及由栅线(G1,G2)、第一数据线(D1)和第二数据线(D2)交叉定义的若干像素单元(3);第一数据线(D1)用以驱动同一列像素单元中的第奇数个像素单元,第二数据线(D2)用以驱动同一列像素单元中的第偶数个像素单元,对于每一列像素单元(3),至少一行像素单元所在区域内设置有修复线(1);修复线(1)的两端投影分别与同一列像素单元的第一数据线(D1)、第二数据线(D2)所在区域重合,且与第一数据线(D1)以及第二数据线(D2)均隔离设置。本发明所述的阵列基板、阵列基板的制作方法及修复方法,具有修复率高、修复简便以及经济效益好等优点。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)