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1. (WO2015100880) PLAQUE DE MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/100880    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/075547
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 17.04.2014
CIB :
G03F 1/38 (2012.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No. 10 Jiuxianqiao Rd. Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base, Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020 (CN)
Inventeurs : CHEN, Junsheng; (CN)
Mandataire : DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; Maples International Center 10F, Bldg.2 No. 32 Xizhimen North Street, Haidian District Beijing 100082 (CN)
Données relatives à la priorité :
201310745048.0 30.12.2013 CN
Titre (EN) MASK PLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) PLAQUE DE MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 掩膜板及其制作方法
Abrégé : front page image
(EN)A mask plate and a manufacturing method therefor. The mask plate comprises a pattern region (A) and an auxiliary region (B) on the periphery of the pattern region (A), and the thickness of at least one part of the auxiliary region (B) is larger than that of the pattern region (A). The present invention can be applied to manufacturing of organic electroluminescent devices, so as to improve the quality of a pattern formed in the evaporation process.
(FR)La présente invention concerne une plaque de masque et son procédé de fabrication. La plaque de masque comprend une région de motif (A) et une région auxiliaire (B) sur la périphérie de la région de motif (A), et l'épaisseur d'au moins une partie de la région auxiliaire (B) est plus grande que celle de la région de motif (A). La présente invention peut être appliquée à la fabrication de dispositifs électroluminescents organiques, de façon à améliorer la qualité d'un motif formé dans le processus d'évaporation.
(ZH)一种掩膜板及其制作方法,掩模板包括图案区域(A)以及图案区域(A)外围的辅助区域(B),并且辅助区域(B)中的至少一部分区域的厚度大于图案区域(A)的厚度。该发明可用于有机电致发光器件的制造中,以提高蒸鍍过程中形成的图形质量。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)