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1. (WO2015100730) SYSTÈME D’ÉVAPORATION SOUS VIDE À ÉCRITURE DIRECTE ET PROCÉDÉ S'Y RAPPORTANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/100730    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/070083
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 03.01.2014
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), B01D 1/30 (2006.01)
Déposants : BEIHANG UNIVERSITY [CN/CN]; Xueyuanlu, No.37, Haidian Beijing 100191 (CN)
Inventeurs : YAN, Peng; (CN).
ZHANG, Liyuan; (CN).
ZHANG, Zhen; (CN).
GUO, Lei; (CN)
Mandataire : BEIJING YONGCHUANGXINSHI PATENT AGENCY; Rongli Jiang Xueyuanlu, No.27, haidian Beijing 100191 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) WRITE-THROUGH VACUUM EVAPORATION SYSTEM AND A METHOD THEREFOR
(FR) SYSTÈME D’ÉVAPORATION SOUS VIDE À ÉCRITURE DIRECTE ET PROCÉDÉ S'Y RAPPORTANT
(ZH) 一种直写式真空蒸发系统及其方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a write-through vacuum evaporation system and a method therefor, belonging to the field of film-plating processing. The apparatus comprises an electron beam generating device, a vacuum evaporation chamber, a vacuum system, a sample chamber, a driver, a multi-channel signal acquiring and conditioning module, a main control computer, a quantum detection platform, a control cabinet, and a display and detection module. The method comprises: step 1, preparation; step 2: vacuum pumping; step 3, positioning; step 4, target material evaporation; step 5, film-plating by the deposition of a target material beam; step 6, movement of the sample stage in a specific track; step 7, judgement; step 8, quantum effect detection; and step 9, whether there is a quantum effect or not. The write-through vacuum evaporation system overcomes the film-plating mechanism of sample fixing in an existing vacuum evaporation system, and controls the evaporating material for plating a film, in a write-through form, onto a surface of a substrate in an ultra-precise movement, such that the processing requirements of graphic patterns, dot matrix and multilayer structures in preparation of quantum functional devices are achieved and the precision, efficiency and functions of the vacuum evaporation film-plating are effectively improved.
(FR)L'invention porte sur un système d'évaporation sous vide à écriture directe et sur un procédé s'y rapportant, ce qui concerne le domaine du traitement par placage de film. L'appareil comprend un dispositif de production de faisceau d'électrons, une chambre d'évaporation sous vide, un système à vide, une chambre à échantillon, un dispositif de pilotage, un module de conditionnement et d'acquisition de signaux multivoie, un ordinateur de commande principal, une plate-forme de détection quantique, une armoire de commande et un module d'affichage et de détection. Le procédé comprend : étape 1, la préparation ; étape 2 : le pompage à vide ; étape 3, le positionnement ; étape 4, l'évaporation de substance cible ; étape 5, le placage de film par le dépôt d'un faisceau de substance cible ; étape 6, le déplacement de la platine portant l'échantillon suivant une piste particulière ; étape 7, l'évaluation ; étape 8, la détection des faits antiques ; et étape 9, le fait de conclure s'il y a un effet quantique ou non. Le système d'évaporation sous vide à écriture directe pallie le mécanisme de placage de film de fixation d'échantillon dans un système d'évaporation sous vide existant et gère la substance d'évaporation pour le placage d'un film, sous une forme d'écriture directe, sur une surface d'un substrat suivant un mouvement ultra-précis, de sorte que les exigences de traitement de motifs graphiques, de matrices de points et de structures multicouches dans la préparation de dispositifs fonctionnels quantiques sont atteintes et la précision, l'efficacité et les fonctions du placage de film par évaporation sous vide sont efficacement améliorées.
(ZH)一种直写式真空蒸发系统及其方法,属于镀膜加工领域。装置包括电子束发生装置、真空蒸发室、真空系统、样品室、驱动器、多路信号采集调理模块、主控计算机、量子检测台、控制柜、显示与检测模块。方法包括:步骤1,准备;步骤2,抽真空;步骤3,定位;步骤4,靶材蒸发;步骤5,靶材束沉积镀膜;步骤6,样品台特定轨迹运动;步骤7,判断;步骤8,量子效应检测;步骤9,是否具有量子效应。直写式真空蒸发系统克服了现有真空蒸发系统中样品固定的镀膜机制,控制蒸发材料以直写形式镀膜到做超精密运动的基片表面,实现了量子功能器件制备中对图案、点阵和多层结构的加工要求,有效提高了真空蒸发镀膜的精度、效率和功能。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)