WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015100354) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES EUV
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/100354    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/072218
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 23.12.2014
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; KLA-TENCOR CORPORATION Legal Department One Technology Drive, Milpitas Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : DELGADO, Gildardo; (US).
CHILESE, Francis C.; (US).
GARCIA, Rudy; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; (US)
Données relatives à la priorité :
61/919,816 23.12.2013 US
14/578,301 19.12.2014 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING EUV OPTICAL ELEMENTS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES EUV
Abrégé : front page image
(EN)A system for cleaning or suppressing contamination or oxidation in a EUV optical setting includes an illumination source, a detector, a first set of optical elements to direct light from the illumination source to a specimen and a second set of optical elements to receive illumination from the specimen and direct the illumination to the detector. The system also includes one or more vacuum chambers for containing the first and second set of optical elements and containing a selected purge gas ionizable by the light emitted by the illumination source. The first or second set of optical elements includes an electrically biased optical element having at least one electrically biased surface. The electrically biased optical element has a bias configuration suitable to attract one or more ionic species of the selected purge gas to the electrically biased surface in order to clean contaminants from the electrically biased surface.
(FR)La présente invention concerne un système de nettoyage ou de décontamination ou de désoxydation d'un montage optique EUV comprenant une source d'éclairement, un détecteur, un premier ensemble d'éléments optiques servant à orienter une lumière issue de la source d'éclairement vers un spécimen et un second ensemble d'éléments optiques servant à recevoir l'éclairement du spécimen et à orienter l'éclairement vers le détecteur. Le système comprend également une ou plusieurs chambres de formation de vide destinées à contenir les premier et second ensembles d'éléments optiques et à contenir un gaz de purge sélectionné pouvant être ionisé par la lumière émise par la source d'éclairement. Le premier ou second ensemble d'éléments optiques comprend un élément optique polarisé électriquement comportant au moins une surface polarisée électriquement. L'élément optique polarisé électriquement a une configuration de polarisation appropriée pour attirer une ou plusieurs espèces ioniques du gaz de purge sélectionné vers la surface polarisée électriquement afin de décontaminer la surface polarisée électriquement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)