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1. (WO2015100225) TENSIOACTIFS ETHOXYLÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/100225    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/071860
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 22.12.2014
CIB :
C07C 317/46 (2006.01), C07C 317/48 (2006.01)
Déposants : NOVUS INTERNATIONAL INC. [US/US]; 20 Research Park Drive St. Charles, Missouri 63304 (US).
BOARD OF REGENTS OF THE UNIVERSITY OF OKLAHOMA [US/US]; 660 Parrington Oval Norman, Oklahoma 73019 (US)
Inventeurs : ARHANCET, Graciela; (US).
LONG, Scott; (US).
WANG, Xiaojun; (US).
EMBSE, Richard Vonder; (US).
GRADY, Brian; (US).
HARWELL, Jeff; (US).
YU, Guangzhe; (US)
Mandataire : BISSEN, Shirley T.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/921,282 27.12.2013 US
Titre (EN) ETHOXYLATED SURFACTANTS
(FR) TENSIOACTIFS ETHOXYLÉS
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides sulfur- or selenium-containing compounds comprising hydrophobic moieties and ethoxylated ester or ethoxylated amide moieties such that the compounds have surfactant properties. Also provided are methods for using the disclosed compounds or mixtures thereof in a variety of applications.
(FR)La présente invention concerne des composés contenant du sulfure ou du sélénium, comprenant des groupes fonctionnels hydrophobes et des groupes fonctionnels ester éthoxylé ou amide éthoxylé tels que les composés ayant des propriétés tensio-actives. L'invention concerne également des procédés d'utilisation des composés ou leurs mélanges dans une grande variété d'applications.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)