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1. (WO2015099659) PROCÉDÉ POUR FORMER DES ÉLÉMENTS OPAQUES EN VERRE DE QUARTZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/099659    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/077505
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 23.12.2013
CIB :
C03B 19/06 (2006.01), C03B 23/00 (2006.01), C03B 23/047 (2006.01), C03B 23/07 (2006.01), C03B 20/00 (2006.01)
Déposants : HERAEUS QUARTZ AMERICA LLC [US/US]; 15705 Long Vista Dr. Austin, TX 78728 (US)
Inventeurs : DONELON, Matthew, J.; (US).
PITZEN, Arno; (US)
Mandataire : SHAH-CREAMER, Bijal; Panitch Schwarze Belisario & Nadel LLP One Commerce Square 2005 Market Street, Suite 2200 Philadelphia, PA 19103 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR FORMING OPAQUE QUARTZ GLASS COMPONENTS
(FR) PROCÉDÉ POUR FORMER DES ÉLÉMENTS OPAQUES EN VERRE DE QUARTZ
Abrégé : front page image
(EN)A method of forming an opaque quartz glass component is provided. The method includes (a) providing a starting preform made of quartz glass; (b) heating at least a portion of the starting preform to a predetermined temperature at which the quartz glass of the starting preform has a viscosity in a range of 10E2 to 10E12 poise; and (c) deforming at least a portion of the heated preform at the predetermined temperature to change a shape and/or dimension(s) of the heated perform in order to form the opaque quartz glass component. The starting preform and the heated preform have respective densities of at least 2.15 g/cm3 and at least 2.10 g/cm3. The starting perform and the opaque quartz glass component have respective direct spectral transmissions of approximately 0.1-1% and 0.2-3% in the wavelength range of λ=190 nm to λ=4990 nm at a wall thickness of 3 mm and a diffuse reflectance of at least 60% in a wavelength range of λ=190 nm to λ=2500 nm.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un élément opaque en verre de quartz. Le procédé comprend (a) l'utilisation d'une préforme de départ en verre de quartz ; (b) le chauffage d'au moins une partie de la préforme de départ à une température prédéterminée à laquelle le verre de quartz de la préforme de départ présente une viscosité dans la plage de 10E2 à 10E12 poises ; (c) la déformation d'au moins une partie de la préforme chauffée à une température prédéterminée pour modifier une forme et/ou une/des dimension(s) de la préforme chauffée en vue de former un élément opaque en verre de quartz. La préforme de départ et la préforme chauffée présentent des densités respectives d'au moins 2,15 g/cm3 et d'au moins 2,10 g/cm3. La préforme de départ et l'élément opaque en verre de quartz présentent des transmissions spectrales directes respectives d'environ 0,1-1 % et 0,2-3 % dans la plage de longueurs d'onde de λ=190 nm à λ=4990 nm à une épaisseur de paroi de 3 mm et une réflectance diffuse d'au moins 60 % dans une plage de longueurs d'onde de λ=190 nm à λ=2500 nm.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)