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1. (WO2015099238) SUBSTRAT DE TISSU SOUPLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/099238    N° de la demande internationale :    PCT/KR2014/000574
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 21.01.2014
CIB :
B32B 27/12 (2006.01), B32B 7/12 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), B32B 37/00 (2006.01)
Déposants : KOLON GLOTECH, INC. [KR/KR]; (Byeoryang-dong) 11, Kolon-ro Gwacheon-si Gyeonggi-do 427-709 (KR)
Inventeurs : PARK, Byoung Cheul; (KR).
PARK, Beob; (KR).
KIM, Soo Heon; (KR)
Mandataire : WOOIN PATENT & LAW FIRM; (Yeoksam-dong, Jungpyeong Bldg.) 2Fl. 157 Yeoksam-ro Gangnam-gu Seoul 135-925 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2013-0166228 27.12.2013 KR
Titre (EN) FLEXIBLE FABRIC SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) SUBSTRAT DE TISSU SOUPLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT
(KO) 플렉서블 패브릭 기판 및 그의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a flexible fabric substrate for interrupting gas and a method for manufacturing the same, the flexible fabric substrate comprising: a fabric base material; an adhesive layer formed on the fabric base material as a coating; a film stacked on the adhesive layer; and a flattening membrane stacked on the film.
(FR)La présente invention concerne un substrat de tissu souple pour couper le gaz et un procédé de fabrication de celui-ci, le substrat de tissu souple comprenant : un matériau de tissu de base; une couche adhésive formée sur le matériau de base en tissu sous la forme d'un revêtement; un film empilé sur la couche adhésive; et une membrane d'aplatissement empilée sur le film.
(KO)패브릭 기재; 패브릭 기재 상에 코팅된 점착제층; 점착제층 상에 적층된 필름; 및 필름 상에 적층된 평탄화막을 포함하는 플렉서블 가스 차단용 패브릭 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)