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1. (WO2015099163) COMPOSITION DE COPOLYMÈRES À BLOCS, PROCÉDÉ DE FABRICATION S'Y RAPPORTANT ET FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/099163    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/084665
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 26.12.2014
CIB :
C08L 53/02 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01)
Déposants : ZEON CORPORATION [JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246 (JP)
Inventeurs : ODA Ryoji; (JP).
ISHII Yuta; (JP)
Mandataire : OHISHI Haruhito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-270890 27.12.2013 JP
Titre (EN) BLOCK COPOLYMER COMPOSITION, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND FILM
(FR) COMPOSITION DE COPOLYMÈRES À BLOCS, PROCÉDÉ DE FABRICATION S'Y RAPPORTANT ET FILM
(JA) ブロック共重合体組成物、その製造方法およびフィルム
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides: a block copolymer composition which includes a block copolymer (A) represented by formula (A) and a block copolymer (B) represented by formula (B), and which, after having been moulded into a pellet shape and dried, has a moisture content when left to rest for 24 hours under conditions in which the temperature is 37˚C and the relative humidity is 70% of not more than 200 ppm by weight; a production method for the block copolymer composition; and a film obtained by melt moulding the resin composition. In formula (A) and formula (B), Ar1a, Ar1b, and Ar2b are aromatic vinyl polymer blocks having a weight average molecular weight of 6,000-18,000, Ar2a is an aromatic vinyl polymer block having a weight average molecular weight of 40,000-400,000, and Da and Db are conjugated diene polymer blocks which satisfy specific conditions. According to the present invention, provided is a block copolymer composition which has both a high elastic modulus and a low permanent elongation, and with which the formation of holes is inhibited when obtaining a film using melt moulding.
(FR)La présente invention concerne : une composition de copolymères à blocs qui comprend un copolymère à blocs (A), représenté par la formule (A), et un copolymère à blocs (B), représenté par la formule (B), et qui, après avoir été moulée sous forme de pastille et séchée, présente une teneur en humidité, lorsqu'elle repose pendant 24 heures dans des conditions dans lesquelles la température est de 37 °C et l'humidité relative est de 70 %, inférieure ou égale à 200 ppm en poids ; un procédé de fabrication pour la composition de copolymères à blocs ; un film obtenu par moulage en phase humide de la composition de résine. Dans la formule (A) et la formule (B), Ar1a, Ar1b et Ar2b sont des blocs de polymère vinylique aromatique ayant une masse moléculaire moyenne en poids de 6 000 à 18 000, Ar2a est un bloc de polymère vinylique aromatique ayant une masse moléculaire moyenne en poids de 40 000 à 400 000 et Da et Db sont des blocs de polymère diénique conjugué qui satisfont à des conditions particulières. La composition de copolymères à blocs selon la présente invention possède à la fois un module élastique élevé et un faible allongement permanent, et permet d'inhiber la formation de trous lors de l'obtention d'un film à l'aide d'un moulage en phase humide.
(JA) 本発明は、下記の式(A)で表されるブロック共重合体Aと下記の式(B)で表されるブロック共重合体Bとを含有してなり、ペレット形状に成形し乾燥させた後に37℃、相対湿度70%の条件で24時間静置した場合の水分含有量が200重量ppm以下であるブロック共重合体組成物、その製造方法、前記樹脂組成物を溶融成形してなるフィルムである。式(A)および式(B)において、Ar1、Ar1およびAr2は、重量平均分子量が6,000~18,000の芳香族ビニル重合体ブロックであり、Ar2は、重量平均分子量が40,000~400,000の芳香族ビニル重合体ブロックであり、DおよびDは、特定の条件を満たす共役ジエン重合体ブロックである。 本発明によれば、高い弾性率と小さい永久伸びとを併せ持ち、溶融成形でフィルムを得る際の穴あきが防止されたブロック共重合体組成物が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)