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1. (WO2015099137) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/099137    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/084557
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 26.12.2014
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), C08F 2/44 (2006.01), C08F 265/02 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
Déposants : ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101 (JP)
Inventeurs : MATSUDA, Takayuki; (JP)
Mandataire : AOKI, Atsushi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-270370 26.12.2013 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive resin composition including an alkali-soluble polymer (A), a compound (B) having an ethylenic unsaturated double bond, and a photopolymerization initiator (C). In a resist pattern obtained by forming a photosensitive resin layer comprising the photosensitive resin composition, upon a substrate surface and exposing and developing same, the difference is less than 15 µm between: a pattern resolution (a) when the focal point is positioned on the substrate surface and the pattern is exposed; and a pattern resolution (b) obtained when the focal point position is displaced from the substrate surface by 300 µm in the thickness direction of the substrate.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible comprenant un polymère soluble dans les alcalis (A), un composé (B) ayant une double liaison éthylénique insaturée et un initiateur de photo-polymérisation (C). Dans un motif de réserve obtenu en formant une couche de résine photosensible, qui comporte la composition de résine photosensible, sur une surface de substrat et en exposant et développant cette dernière, la différence est inférieure à 15 µm entre : une résolution de motif (a) lorsque le point focal est positionné sur la surface de substrat et que le motif est exposé ; une résolution de motif (b) obtenue lorsque la position de point focal est déplacée de la surface de substrat de 300 µm dans la direction d'épaisseur du substrat.
(JA)(A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物であって、該感光性樹脂組成物から成る感光性樹脂層を基板表面上に形成し、露光及び現像を行って得られるレジストパターンにおいて、該基板表面に焦点位置を合わせて該露光を行ったときのパターン解像度aと、該基板表面から該基板の厚み方向に300μmずらした位置に焦点位置を合わせて該露光を行ったときのパターン解像度bとの差が15μm未満である、感光性樹脂組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)