WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015099133) PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR SUBSTRAT EN VERRE ET APPAREIL DE FABRICATION POUR SUBSTRAT EN VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/099133    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/084541
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 26.12.2014
CIB :
C03B 5/225 (2006.01)
Déposants : AVANSTRATE INC. [JP/JP]; 2, Chitose-cho, Yokkaichi-shi, Mie 5100051 (JP)
Inventeurs : SUZUKI Ryo; (JP).
FUJIMOTO Shingo; (JP)
Mandataire : GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-268962 26.12.2013 JP
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD FOR GLASS SUBSTRATE AND MANUFACTURING APPARATUS FOR GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR SUBSTRAT EN VERRE ET APPAREIL DE FABRICATION POUR SUBSTRAT EN VERRE
(JA) ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置
Abrégé : front page image
(EN) This glass treatment device has molten glass flow therethrough and processes said molten glass, the inner wall thereof at least partially comprising a material containing a platinum-group metal, and is constituted in such a manner that a gas-phase space is formed in the interior by the surface of the molten glass and the inner wall. The gas-phase space is formed along the direction of flow of the molten glass. When processing the molten glass, on the wall of the gas-phase space, a temperature gradient region having a temperature gradient along the upstream or downstream direction of the flow of molten glass from the high-temperature region of the wall is formed by heating and/or radiating heat from the glass processing device. In order to enable the minimization of agglomeration of volatilized platinum-group metals present in the gas-phase space, the temperature difference between the minimum and maximum temperature in the temperature gradient region is maintained so as not to exceed 150℃.
(FR) L'invention porte sur un dispositif de traitement de verre dans lequel passe un flux de verre fondu et qui traite ledit verre fondu, sa paroi interne comprenant au moins en partie un matériau contenant un métal du groupe du platine, et qui est constitué de façon qu'un espace de phase gazeuse est formé à l'intérieur par la surface du verre fondu et la paroi interne. L'espace de phase gazeuse est formé le long de la direction du flux du verre fondu. Lors du traitement du verre fondu, sur la paroi de l'espace de phase gazeuse, une région à gradient de température, ayant un gradient de température le long de la direction du flux de verre fondu dans le sens vers l'amont ou vers l'aval à partir de la région à haute température de la paroi, est formée par chauffage et/ou rayonnement de chaleur à partir du dispositif de traitement de verre. Afin de permettre la réduction au minimum de l'agglomération de métaux du groupe du platine volatilisés présents dans l'espace de phase gazeuse, la différence de température entre la température minimale et la température maximale dans la région à gradient de température est maintenue de façon à ne pas dépasser 150 °C.
(JA) ガラス処理装置は、内壁の少なくとも一部が白金族金属を含む材料からなり、熔融ガラスを流して前記熔融ガラスを処理する装置であり、前記熔融ガラスの表面と前記内壁により内部に気相空間が形成されるように構成されている。前記気相空間は、前記熔融ガラスの流れの方向に沿って形成されている。前記熔融ガラスを処理するとき、前記気相空間の前記壁において、前記壁における最高温度から前記熔融ガラスの流れの方向のうち上流方向あるいは下流方向に沿って温度勾配を有する温度勾配領域が、前記ガラス処理装置の加熱及び放熱の少なくとも一方を用いて形成される。前記気相空間に存在する揮発した白金族金属の揮発物の凝集を抑制できるように、前記温度勾配領域における前記最高温度と最低温度との温度差を150℃以下にする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)