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1. (WO2015098985) SYSTÈME ET DISPOSITIF DE LASER EXCIMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098985    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/084188
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 24.12.2014
CIB :
H01S 3/036 (2006.01), H01S 3/134 (2006.01), H01S 3/225 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : ASAYAMA Takeshi; (JP).
WAKABAYASHI Osamu; (JP).
KAKIZAKI Kouji; (JP)
Mandataire : HOSAKA Nobuhisa; (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2013/084703 25.12.2013 JP
Titre (EN) EXCIMER LASER DEVICE AND SYSTEM
(FR) SYSTÈME ET DISPOSITIF DE LASER EXCIMÈRE
(JA) エキシマレーザ装置及びエキシマレーザシステム
Abrégé : front page image
(EN)This excimer laser device may be provided with a laser chamber in which a gas is sealed, a pair of electrodes disposed in the laser chamber, a power supply unit for feeding a pulse voltage between the electrodes, a gas feeding unit for feeding a gas into the laser chamber, a gas exhaust unit for partially exhausting the gas in the laser chamber, and a gas control unit for controlling the gas feeding unit and the gas exhaust unit so as to increase the ratio of the exchange of gas in the laser chamber on the basis of the progress of degradation of the electrodes indicated by the degradation parameter for the electrode.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de laser excimère qui peut être doté d'une chambre de laser dans laquelle un gaz est isolé, d'une paire d'électrodes disposées dans la chambre de laser, d'une unité d'alimentation destinée à fournir une tension d’impulsion entre les électrodes, d'une unité d'alimentation en gaz destinée à alimenter en gaz la chambre laser, d'une unité d'évacuation de gaz destinée à évacuer partiellement le gaz dans la chambre laser et d'une unité de commande de gaz destinée à commander l'unité d'alimentation en gaz et l'unité d'évacuation de gaz afin d'augmenter le rapport d'échange de gaz dans la chambre de laser en fonction de l'avancement de la détérioration des électrodes indiquée par le paramètre de détérioration pour l'électrode.
(JA)このエキシマレーザ装置は、ガスを封入するレーザチャンバと、レーザチャンバの内部に配置された一対の電極と、一対の電極間にパルス電圧を供給する電源部と、レーザチャンバの内部へのガスの供給を行うガス供給部と、レーザチャンバの内部のガスの部分的な排気を行うガス排気部と、一対の電極の劣化パラメータが示す一対の電極の劣化の進行に基づいて、レーザチャンバの内部のガスの交換割合を増加させるようにガス供給部及びガス排気部を制御するガス制御部と、を備えてもよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)