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1. (WO2015098870) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE CARTE À CIRCUIT IMPRIMÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098870    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/083965
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 22.12.2014
CIB :
G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : OKADE, Shota; (JP).
MIYASAKA, Masahiro; (JP).
MURAMATSU, Yukiko; (JP)
Mandataire : TAIYO, NAKAJIMA & KATO; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-271831 27.12.2013 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE CARTE À CIRCUIT IMPRIMÉ
(JA) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This photosensitive resin composition contains a binder polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. The binder polymer has a structural unit derived from (meth)acrylic acid, a structural unit derived from styrene or α-methylstyrene, and a structural unit derived from a hydroxyalkyl ester of (meth)acrylic acid that has a C1-12 hydroxyalkyl group. The photopolymerizable compound contains a bisphenol di(meth)acrylate that contains 1 to 20 ethyleneoxy structural units and 0 to 7 propyleneoxy structural units.
(FR)La présente composition de résine photosensible contient un polymère liant, un composé photopolymérisable et un initiateur de photopolymérisation. Le polymère liant comporte une unité structurelle dérivée de l'acide (méth)acrylique, une unité structurelle dérivée du styrène ou de l'α−méthylstyrène, et une unité structurelle dérivée d'un ester hydroxyalkylique d'acide (méth)acrylique comprenant un groupe hydroxyalkyle en C1 - C12. Le composé photopolymérisable contient un di(méth)acrylate de bisphénol qui contient 1 à 20 unités structurelles d'éthylèneoxy et 0 à 7 unités structurelles de propylèneoxy.
(JA) 感光性樹脂組成物は、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する。バインダーポリマーは、(メタ)アクリル酸に由来する構造単位、スチレン又はα-メチルスチレンに由来する構造単位、及び炭素数が1~12のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルに由来する構造単位を有する。光重合性化合物は、エチレンオキシ基の構造単位数が1~20であり、プロピレンオキシ基の構造単位数が0~7であるビスフェノール型ジ(メタ)アクリレートを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)