WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015098672) FILM STRATIFIÉ ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE SOUPLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098672    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/083497
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 11.12.2014
CIB :
B32B 9/00 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : YAMASHITA, Yasuhiro; (JP).
ITO, Yutaka; (JP).
NAKAJIMA, Hideaki; (JP)
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-268641 26.12.2013 JP
Titre (EN) LAMINATED FILM AND FLEXIBLE ELECTRONIC DEVICE
(FR) FILM STRATIFIÉ ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE SOUPLE
(JA) 積層フィルムおよびフレキシブル電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN) A laminated film having a flexible substrate, a first thin film layer formed on the surface of at least one side of the substrate, and a second thin film layer formed on the first thin film layer; wherein the first thin film layer contains silicon (Si) atoms, oxygen (O) atoms, and carbon (C) atoms, the second thin film layer contains silicon atoms, oxygen atoms, and nitrogen (N) atoms, and the first thin film layer and the second thin film layer are formed using glow-discharge plasma.
(FR) L'invention concerne un film stratifié comprenant un substrat souple, une première couche de film mince formée sur la surface d'au moins un côté du substrat, et une deuxième couche de film mince formée sur la première couche de film mince ; la première couche de film mince contenant des atomes de silicium (Si), des atomes d'oxygène (O), et des atomes de carbone (C), la deuxième couche de film mince contenant des atomes de silicium, des atomes d'oxygène et des atomes d'azote (N), et la première couche de film mince et la deuxième couche de film mince étant formées en utilisant un plasma à décharge luminescente.
(JA) 可とう性基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成される第1薄膜層と、第1薄膜層上に形成される第2薄膜層とを有する積層フィルムであって、 前記第1薄膜層は、珪素原子(Si)、酸素原子(O)および炭素原子(C)を含有し、前記第2薄膜層は、珪素原子、酸素原子および窒素原子(N)を含有し、 前記第1薄膜層および第2薄膜層は、グロー放電プラズマを用いて形成されたものである積層フィルム。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)