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1. (WO2015098398) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET SOLUTION DE DÉVELOPPEMENT AQUEUSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098398    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/081095
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 25.11.2014
CIB :
G03F 7/32 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : ENOMOTO Yuichiro; (JP).
UEBA Ryosuke; (JP).
SHIRAKAWA Michihiro; (JP).
FURUTANI Hajime; (JP).
GOTO Akiyoshi; (JP).
KOJIMA Masafumi; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-270272 26.12.2013 JP
Titre (EN) PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, AND AQUEOUS DEVELOPING SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET SOLUTION DE DÉVELOPPEMENT AQUEUSE
(JA) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び水系現像液
Abrégé : front page image
(EN)This pattern formation method involves: a step for forming an actinic-ray sensitive or radiation sensitive film by using an actinic-ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a resin which produces an acidic functional group as a result of decomposition caused by the activity of an acid; a step for exposing the actinic-ray sensitive or radiation sensitive film to light; and an alkaline developing step for developing the exposed actinic-ray sensitive or radiation sensitive film by using an aqueous developing solution which contains a basic compound having two or more basic functional groups.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de motif faisant appel à : une étape de formation d'un film sensible à un rayon actinique ou à un rayonnement au moyen d'une composition de résine sensible à un rayon actinique ou à un rayonnement contenant une résine qui produit un groupe fonctionnel acide consécutivement à une décomposition provoquée par l'activité d'un acide ; une étape d'exposition du film sensible à un rayon actinique ou à un rayonnement à de la lumière ; et une étape de développement alcalin permettant de développer le film sensible à un rayon actinique ou à un rayonnement au moyen d'une solution de développement aqueuse qui contient un composé basique possédant deux groupes fonctionnels basiques, ou plus.
(JA) 本発明のパターン形成方法は、酸の作用により分解して酸性官能基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、塩基性官能基を2つ以上有する塩基性化合物を含む水系現像液を用いて、露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像するアルカリ現像工程、を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)