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1. (WO2015098392) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN CORPS FORMÉ SELON UN MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098392    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/081011
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 25.11.2014
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), C07C 323/03 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), C07F 7/12 (2006.01), C07F 7/18 (2006.01), C07F 9/38 (2006.01)
Déposants : USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 2-6-1, Ote-machi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008150 (JP)
Inventeurs : YAMADA Go; (JP)
Mandataire : HIRAKI Yusuke; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-270402 26.12.2013 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMED BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN CORPS FORMÉ SELON UN MOTIF
(JA) パターン形成体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a pattern formed body, capable of accurately forming a pattern faithful to a mask pattern when irradiating an organic monomolecular film such as an SAM with vacuum-ultraviolet light through a mask under an atmosphere containing oxygen. The method for manufacturing a pattern formed body includes a step of removing a portion of an organic monomolecular film to form a pattern by irradiating a pattern forming substrate covered with the organic monomolecular film with vacuum-ultraviolet light through a mask under an atmosphere containing oxygen, and is characterized in that the vacuum-ultraviolet light has a continuous spectrum in the wavelength range from 180 nm to 200 nm.
(FR)La présente invention a pour objet un procédé de fabrication d’un corps formé selon un motif, capable de former avec précision un motif fidèle à un motif de masque lors de l’irradiation d’un film monomoléculaire organique, tel qu’un SAM, avec une lumière ultraviolette extrême à travers un masque dans une atmosphère contenant de l’oxygène. Le procédé de fabrication d’un corps formé selon un motif comprend une étape de suppression d’une partie d’un film monomoléculaire organique pour former un motif par irradiation d’un substrat, formant le motif et recouvert du film monomoléculaire organique, avec une lumière ultraviolette extrême à travers un masque dans une atmosphère contenant de l’oxygène. Ledit procédé est caractérisé en ce que la lumière ultraviolette extrême a un spectre continu dans la plage de longueurs d’onde de 180 nm à 200 nm.
(JA) 酸素を含む雰囲気中で、真空紫外光をマスクを介してSAM等の有機単分子膜に照射する場合において、マスクパターンに忠実なパターンを精度良く形成することができる、パターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。 表面に有機単分子膜が設けられたパターン形成用基板に対し、酸素を含む雰囲気中において真空紫外光をマスクを介して照射することにより、前記有機単分子膜の一部をパターン状に除去する工程を含むパターン形成体の製造方法であって、前記真空紫外光が、波長180nm~200nmの範囲に連続スペクトルを有することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)