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1. (WO2015098350) DISPOSITIF DE MESURE DE MOTIF EST PROGRAMME D'ORDINATEUR POUR MESURE DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098350    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/080288
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 17.11.2014
CIB :
G01B 15/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : YAMAGUCHI Satoru; (JP).
HASEGAWA Norio; (JP).
SUGIYAMA Akiyuki; (JP).
ISAWA Miki; (JP).
ONIZAWA Akihiro; (JP).
MITSUHASHI Ryuji; (JP)
Mandataire : INOUE Manabu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-270795 27.12.2013 JP
Titre (EN) PATTERN MEASUREMENT DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM FOR MEASURING PATTERN
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE MOTIF EST PROGRAMME D'ORDINATEUR POUR MESURE DE MOTIF
(JA) パターン測定装置、及びパターン測定のためのコンピュータープログラム
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a pattern measurement device which adequately evaluates a pattern formed by means of a patterning method for forming a pattern that is not in a photomask. In order to fulfil said purpose, the present invention suggests a pattern measurement device provided with a computation device for measuring the dimensions between patterns formed on a sample, wherein: the center of the pattern formed on the sample is extracted from data to be measured obtained by irradiating beams; a position alignment process is executed between the extracted center and measurement reference data in which a reference functioning as the measurement start point or measurement end point is set; and the measurement between the measurement start point or the measurement end point of the measurement reference data, which was subjected to position alignment, and the edge or the center of the pattern contained in the data to be measured is measured.
(FR)La présente invention vise à proposer un dispositif de mesure de motif qui évalue de manière adéquate un motif formé au moyen d'un procédé de modélisation pour former un motif qui n'est pas un photomasque. Enfin d'atteindre ledit but, la présente invention porte sur un dispositif de mesure de motif qui comporte un dispositif de calcul destiné à mesurer les dimensions entre des motifs formés sur un échantillon, le centre du motif formé sur l'échantillon étant extrait de données à mesurer obtenues par irradiation de faisceaux ; un procédé d'alignement de position étant exécuté entre le centre extrait et des données de référence de mesure dans lesquelles une référence fonctionnant en tant que point de départ de mesure ou point de fin de mesure est réglée ; et la mesure entre le point de départ de mesure ou le point de fin de mesure des données de référence de mesure, qui ont été soumises à un alignement de position, et le bord ou le centre du motif contenu dans les données à mesurer étant mesurée.
(JA) 本発明は、フォトマスクにはないパターンを形成するパターニング法によって形成されたパターンを適正に評価するパターン測定装置の提供を目的とする。 本発明は、上記目的を達成するために、試料に形成されたパターン間の寸法を測定する演算装置を備えたパターン測定装置であって、ビームを照射することによって得られる被測定データから、試料に形成されたパターンの重心を抽出し、当該抽出された重心と、測定始点或いは測定終点となる基準が設定される測定基準データとの間で位置合わせ処理を実行し、当該位置合わせされた測定基準データの前記測定始点或いは測定終点と、前記被測定データに含まれるパターンの重心、或いはエッジとの間の寸法を測定するパターン測定装置を提案する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)