WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015098031) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/098031    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/006223
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 12.12.2014
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-6-5, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008150 (JP)
Inventeurs : NIIMI, Gota; (JP).
YABUTA, Hironobu; (JP)
Mandataire : KONISHI, Kay; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-266669 25.12.2013 JP
Titre (EN) LIGHT-SOURCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE
(JA) 光源装置
Abrégé : front page image
(EN)This invention discloses a light-source device that minimizes decreases in the reflectance of a condensing mirror or the transmittance of a debris trap due to debris. In this device, a masking member (6) that has an opening (6a) is provided in front of a fixed foil trap (5) so as to limit the solid angle subtended by light emitted by a high-temperature plasma (P). Also, the fixed foil trap (5) is provided with a drive mechanism (7) and is rotated away from a position in which a section of the foil trap to which debris is attached faces the aforementioned opening (6a). This makes it possible to minimize (or reverse) decreases in transmittance due to attached debris, resulting in a longer usable life. The foil trap may also be a rotating foil trap (4) that traps debris from the plasma by rotating. An EUV condensing mirror (9) may also be rotated so as to minimize decreases in reflectance due to attached debris.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de source de lumière qui réduit à un minimum des diminutions du facteur de réflexion d'un miroir de condensation ou du facteur de transmission d'un piège de débris en raison de débris. Dans ce dispositif, un élément de masquage (6) qui possède une ouverture (6a) est disposé à l'avant d'un piège à feuille fixe (5) afin de limiter l'angle solide sous-tendu par une lumière émise par un plasma à haute température (P). Le piège à feuille fixe (5) est également pourvu d'un mécanisme de pilotage (7) et est tourné à l'opposé d'un emplacement dans lequel une section du piège à feuille, auquel un débris est attaché, est tournée vers l'ouverture susmentionnée (6a). Ceci rend possible la réduction à un minimum (ou l'inversion) des diminutions du facteur de transmission en raison de débris attachés, ce qui mène à une durée de vie d'utilisation plus longue. Le piège à feuille peut également être un piège à feuille rotatif (4) qui piège des débris provenant du plasma par rotation. Un miroir de condensation EUV (9) peut également être tourné afin de réduire à un minimum des diminutions de facteur de réflexion en raison de débris attachés.
(JA) デブリに起因するデブリトラップの光透過率の低下や集光鏡における反射率の低下を抑制する光源装置が開示される。この装置において、固定式ホイルトラップ(5)の前に開口部(6a)を有する遮へい部材(6)を設け、高温プラズマ(P)から放出される光の立体角を制限する。また、固定式ホイルトラップ(5)に駆動機構(7)を設け、ホイルトラップのデブリ付着部分が開口部(6a)から臨む位置から外れるように回動させる。これにより、デブリの付着に起因する光の透過率の低下を抑制(または回復)させ、使用寿命を長寿命化することができる。なお、ホイルトラップとして、回転動作によりプラズマから飛来するデブリを捕捉する回転式ホイルトラップ(4)を用いてもよい。さらに、EUV集光鏡(9)を回動させることにより、デブリの付着による反射率の低下を抑制するようにしてもよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)