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1. (WO2015096630) LIQUIDE DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE DESTINÉ À POLIR UNE COUCHE BARRIÈRE DE COBALT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/096630    N° de la demande internationale :    PCT/CN2014/093682
Date de publication : 02.07.2015 Date de dépôt international : 12.12.2014
CIB :
C09G 1/02 (2006.01)
Déposants : ANJI MICROELECTRONICS (SHANGHAI) CO., LTD [CN/CN]; 1st-3rd Floor, Building E, No.889, Bibo Road Zhangjiang High Technology Park Pudong New Area, Shanghai 201203 (CN)
Inventeurs : ZHANG, Jian; (CN).
JING, Jianfen; (CN).
CAI, Xinyuan; (CN).
SONG, Kai; (CN).
QIU, Tengfei; (CN)
Mandataire : HANHONG LAW FIRM; Room 1506-07, New HuangPu Financial Building, No. 61 East Nanjing Road Shanghai 200002 (CN)
Données relatives à la priorité :
201310727883.1 25.12.2013 CN
Titre (EN) CHEMICAL MECHANICAL POLISHING LIQUID FOR POLISHING COBALT BARRIER LAYER
(FR) LIQUIDE DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE DESTINÉ À POLIR UNE COUCHE BARRIÈRE DE COBALT
(ZH) 一种用于钴阻挡层抛光的化学机械抛光液
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a chemical mechanical polishing liquid for polishing a cobalt barrier layer, the chemical mechanical polishing liquid containing abrasive particles, an azole compound, a complexing agent, a polyalkoxide and an oxidizing agent. The polishing liquid of the present invention has a relatively strong capacity for controlling metal cobalt corrosion.
(FR)La présente invention concerne un liquide de polissage mécano-chimique destiné à polir une couche barrière de cobalt, le liquide de polissage mécano-chimique contenant des particules abrasives, un composé azole, un agent complexant, un polyalcoxyde et un oxydant. Le liquide de polissage selon la présente invention possède une capacité relativement élevée de contrôle de la corrosion du métal cobalt.
(ZH)本发明涉及一种用于钴阻挡层抛光的化学机械抛光液,化学机械抛光液含有研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、聚烷氧化物和氧化剂。本发明的抛光液具有较强的控制金属钴的腐蚀的能力。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)