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1. (WO2014176163) MASQUE DE MÉTAL FIN ACTIVEMENT ALIGNÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/176163    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/034799
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 21.04.2014
CIB :
H01L 51/56 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01), G03F 1/42 (2012.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : WHITE, John, M.; (US).
VISSER, Robert; (US).
HAAS, Dieter; (US).
VERCESI, Tommaso; (IT).
LOPP, Andreas; (DE)
Mandataire : PATTERSON, B., Todd; (US)
Données relatives à la priorité :
61/814,764 22.04.2013 US
61/872,336 30.04.2013 US
Titre (EN) ACTIVELY-ALIGNED FINE METAL MASK
(FR) MASQUE DE MÉTAL FIN ACTIVEMENT ALIGNÉ
Abrégé : front page image
(EN)The embodiments described herein generally relate to active alignment of a fine metal mask. The fine metal mask is connected with a frame through a plurality of microactuators. The microactuators can act on the fine metal mask to stretch the mask, reposition the mask or both. In this way, the position and size of the fine metal mask can be maintained in relation to the substrate.
(FR)Dans des modes de réalisation, l'invention concerne en général l'alignement actif d'un masque de métal fin. Ledit masque est relié à un cadre via une pluralité de micro-actionneurs. Ces micro-actionneurs peuvent agir sur le masque de métal fin pour l'étirer, le repositionner ou les deux. De cette façon, la position et la taille du masque de métal fin peuvent être maintenues en relation avec le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)