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1. (WO2014175353) COMPOSITION D'AGENT DE NETTOYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/175353    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/061481
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 23.04.2014
CIB :
C11D 17/08 (2006.01), C11D 1/28 (2006.01), C11D 1/68 (2006.01), C11D 1/83 (2006.01), C11D 3/18 (2006.01), C23G 5/06 (2006.01)
Déposants : JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008162 (JP)
Inventeurs : AOYAGI, Ko; (JP).
YOSHIDA, Mizuho; (JP).
KAI, Koichiro; (JP).
OTSUKA, Hiroe; (JP)
Mandataire : SAKAI, Hiroaki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-092876 25.04.2013 JP
Titre (EN) CLEANING AGENT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION D'AGENT DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄剤組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a cleaning agent composition which can remove a wide variety of stains including organic stains and inorganic stains, can prevent the occurrence of electrostatic charging, and can clean safely. The cleaning agent composition according to the present invention is characterized by being capable of forming a W/O-type microemulsion or a soluble W/O-type emulsion and comprising a saturated aliphatic hydrocarbon (A), an anionic surfactant (B), a nonionic surfactant (C) and water (D), wherein the saturated aliphatic hydrocarbon (A) is contained in an amount of 60.0 to 85.0 mass%, the anionic surfactant (B) is contained in an amount of 8.0 to 15.0 mass%, the nonionic surfactant (C) is contained in an amount of 2.0 to 5.0 mass%, the water (D) is contained in an amount of 1.0 to 20.0 mass%, and the volume resistivity of the cleaning agent composition is 1×109 Ω·cm or less.
(FR)L'invention concerne une composition d'agent de nettoyage qui peut éliminer une large variété de taches comprenant des taches organiques et des taches inorganiques, peut prévenir la survenue de charge électrostatique et peut nettoyer en toute sécurité. La composition d'agent de nettoyage de la présente invention est caractérisée en ce qu'elle est apte à former une micro-émulsion de type eau/huile ou une émulsion de type eau/huile soluble et en ce qu'elle comprend un hydrocarbure aliphatique saturé (A), un tensio-actif anionique (B), un tensio-actif non ionique (C) et de l'eau (D), l'hydrocarbure aliphatique saturé (A) étant contenu dans une quantité de 60,0 à 85,0% en masse, le tensio-actif anionique (B) étant contenu dans une quantité de 8,0 à 15,0% en masse, le tensio-actif non ionique (C) étant contenu dans une quantité de 2,0 à 5,0% en masse, l'eau (D) étant contenue dans une quantité de 1,0 à 20,0% en masse, et la résistivité transversale de la composition d'agent de nettoyage étant 1×109 Ω·cm ou moins.
(JA) 有機から無機までの幅広い汚れを洗浄でき、帯電を防止して、安全に洗浄しうる洗浄剤組成物を提供する。本発明の洗浄剤組成物は、W/Oマイクロエマルションまたは可溶化型W/Oエマルションを形成し、飽和脂肪族炭化水素(A)と、アニオン性界面活性剤(B)と、非イオン性界面活性剤(C)と、水(D)とを含み、その配合量は、前記飽和脂肪族炭化水素(A)が60.0~85.0質量%、前記アニオン性界面活性剤(B)が8.0~15.0質量%、前記非イオン性界面活性剤(C)が2.0~5.0質量%、前記水(D)が1.0~20.0質量%であるとともに、体積抵抗率が1×10Ω・cm以下であることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)