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1. (WO2014175150) DISPOSITIF D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/175150    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/060889
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 17.04.2014
CIB :
H01L 21/66 (2006.01), H01J 37/22 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : GOTO Yasunori; (JP).
YAMAMOTO Takuma; (JP)
Mandataire : HIRAKI Yusuke; Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-089564 22.04.2013 JP
Titre (EN) SAMPLE OBSERVATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON
(JA) 試料観察装置
Abrégé : front page image
(EN)A sample observation device comprises: a charged particle optical column for irradiating a sample with a charged particle beam accelerated by a certain voltage, said sample including a recess portion to be observed; an image generation unit for, from a signal obtained by the irradiation with the charged particle beam, obtaining an image including the portion to be observed; a storage unit for previously storing information describing the relationship between the ratio of brightness at a recess portion of a reference sample to that at a periphery portion of the recess portion and values representing the structure of the recess portion of the reference sample; a calculation unit for obtaining the ratio of brightness at the recess portion of the image to that at the periphery of the recess portion; and a determination unit for, based on the information describing the relationship and the ratio of brightness in the image, determining whether a defect is present or not in the portion to be observed.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'observation d'échantillon comprenant : une colonne optique de particules chargées destinée à exposer un échantillon à un rayonnement au moyen d'un faisceau de particules chargées accéléré par une certaine tension, ledit échantillon comprenant une partie d'évidement à observer; une unité de génération d'image destinée à obtenir une image comprenant la partie à observer à partir d'un signal obtenu au moyen du rayonnement à l'aide du faisceau de particules chargées; une unité de mémoire destinée à mémoriser préalablement des informations décrivant la relation entre le rapport de la brillance au niveau d'une partie d'évidement d'un échantillon de référence à celle au niveau d'une partie périphérique de la partie d'évidement et des valeurs représentant la structure de la partie d'évidement de l'échantillon de référence; une unité de calcul destinée à obtenir le rapport de la brillance au niveau de la partie d'évidement de l'image à celle au niveau de la périphérie de la partie d'évidement; et une unité de détermination destinée, sur la base des informations décrivant la relation et le rapport de brillance dans l'image, à déterminer si un défaut est présent dans la partie à observer.
(JA) 試料観察装置は、凹部である被観察対象部を含む試料に、ある加速電圧によって荷電粒子線を照射する荷電粒子光学カラムと、前記荷電粒子線の照射によって得られる信号から前記被観察対象部を含む画像を取得する画像生成部と、標準試料における凹部と当該凹部の周辺部との明るさ比と、前記標準試料における前記凹部の構造を表す値との関係を示す情報を、予め記憶する記憶部と、前記画像における前記凹部と前記凹部の周辺部との明るさ比を求める演算部と、前記関係を示す情報と前記画像における前記明るさ比とに基づいて、前記被観察対象部における欠陥の有無を判定する判定部と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)