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1. (WO2014174804) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/174804    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/002158
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 16.04.2014
CIB :
H05B 33/10 (2006.01), C23C 16/04 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/04 (2006.01)
Déposants : JOLED INC. [JP/JP]; 23, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : IMANAKA, Seiji; .
UETANI, Kazuo; .
KIN, Zenken;
Mandataire : YOSHIKAWA, Shuichi; c/o NII Patent Firm, 6F, Tanaka Ito Pia Shin-Osaka Bldg., 3-10, Nishi Nakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-city, Osaka 5320011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-089022 22.04.2013 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING EL DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) EL表示装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for producing an EL display device provided with a light-emitting section, in which a plurality of pixels are arrayed and disposed, and thin film transistor array device, which controls the light emission of the light-emitting section, a panel section comprising the light-emitting section and the thin film transistor array device on a substrate being covered by a sealing layer after forming the panel section, wherein the step for forming the sealing layer is executed by disposing a mask (43) on a base substrate (21) and forming a film that forms the sealing layer, and the mask (43) has a contact section (43a), which contacts the base substrate (21), and an end section (43b) disposed with a gap (44) with respect to the panel section (32).
(FR)La présente invention concerne un procédé de production de dispositif d'affichage électroluminescent comprenant une section électroluminescente, dans laquelle une pluralité de pixels est disposée en réseau, et un dispositif en réseau de transistors à couches minces, qui commande l'émission de lumière de la section électroluminescente, une section de panneau comprenant la section électroluminescente et le dispositif en réseau de transistors à couches minces sur un substrat couvert par une couche de scellement après formation de la section de panneau. L'étape de formation de la couche de scellement est exécutée en déposant un masque (43) sur un substrat de base (21) et en formant un film qui forme la couche de scellement. Le masque (43) comporte une section de contact (43a) qui entre en contact avec le substrat de base (21), et une section d'extrémité (43b) disposée avec un espace (44) par rapport à la section de panneau (32).
(JA)複数個の画素を配列して配置した発光部と、発光部の発光を制御する薄膜トランジスタアレイ装置とを備え、基板上に、発光部と薄膜トランジスタアレイ装置からなるパネル部を形成した後、パネル部を封止層により被覆するEL表示装置の製造方法において、封止層を形成する工程は、ベース基板(21)上にマスク(43)を配置して封止層を形成する膜を成膜することにより実施し、かつマスク(43)は、ベース基板(21)に当接する当接部(43a)と、パネル部(32)との間にギャップ(44)をあけて配置される端部(43b)とを有している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)