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1. (WO2014174781) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/174781    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/002040
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 09.04.2014
CIB :
B01J 19/00 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01), F28D 9/00 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) [JP/JP]; 2-4, Wakinohama-Kaigandori 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585 (JP)
Inventeurs : MATSUOKA, Akira; .
NOISHIKI, Koji;
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-089305 22.04.2013 JP
Titre (EN) PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
(JA) 処理装置及び処理方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a processing device (1) and processing method that are able to perform processing of a starting material fluid while favorably controlling the processing temperature of same. The processing device (1) is equipped with: a processing member (2) that leads in the starting material fluid and processes same therewithin; and a processing tank (3) that houses the processing member (2) and retains the processed processing products. The processing member (2) has: a minute duct that is provided therewithin and causes the flow-through of the starting material fluid; and a heat medium duct that causes the flow-through of a heat medium having a different temperature from that of the starting material fluid flowing through the minute duct. The minute duct and the heat medium duct are separated from each other in a manner so that heat exchange is possible between the starting material fluid and heat medium flowing through.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement (1) et un procédé de traitement qui permettent d'effectuer le traitement d'une matière fluide de départ tandis que la température de traitement de celle-ci est régulée favorablement. Le dispositif de traitement (1) est équipé d'un élément de traitement (2) qui achemine la matière fluide de départ et traite celle-ci, et un réservoir de traitement (3) qui loge l'élément de traitement (2) et retient les produits de traitement traités. L'élément de traitement (2) comprend : un conduit minute à l'intérieur dudit élément causant l'écoulement de la matière fluide de départ, et un conduit de milieu chauffant causant l'écoulement d'un milieu chauffant ayant une température différente de celle de la matière fluide de départ s'écoulant à travers le conduit minute. Le conduit minute et le milieu chauffant sont séparés l'un de l'autre de manière que l'échange thermique est possible entre la matière fluide de départ et le milieu chauffant s'écoulant à travers ledit conduit.
(JA) 原料流体の処理温度を良好に制御しながらその処理を行うことが可能な処理装置(1)及び処理方法が提供される。処理装置(1)は、原料流体を導き入れて内部で処理を行う処理部材(2)と、この処理部材(2)を収容すると共に処理した処理生成物を貯留する処理槽(3)と、を具備する。処理部材(2)は、その内部に設けられて原料流体を流通させる微細流路と、微細流路を流通する原料流体とは異なる温度をもつ熱媒が流通する熱媒流路と、を有する。微細流路及び熱媒流路は、これらを流れる原料流体と熱媒との熱交換を可能にするように互いに隔離されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)