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1. (WO2014173573) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE PRODUCTION DE POLYCHLOROSILANES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/173573    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/054116
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 04.03.2014
CIB :
C08G 77/60 (2006.01), C01B 33/107 (2006.01)
Déposants : EVONIK DEGUSSA GMBH [DE/DE]; Rellinghauser Straße 1-11 45128 Essen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
LANG, Jürgen Erwin [DE/DE]; (DE) (US only).
RAULEDER, Hartwig [DE/DE]; (DE) (US only).
MÜH, Ekkehard [DE/DE]; (DE) (US only).
MOUSSALLEM, Imad [LB/DE]; (DE) (US only)
Inventeurs : LANG, Jürgen Erwin; (DE).
RAULEDER, Hartwig; (DE).
MÜH, Ekkehard; (DE).
MOUSSALLEM, Imad; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2013 207 444.1 24.04.2013 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON POLYCHLORSILANEN
(EN) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING POLYCHLOROSILANES
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE PRODUCTION DE POLYCHLOROSILANES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung von Polychlorsilanen aus monomeren Chlorsilanen, indem die Chlorsilane einem thermischen Plasma ausgesetzt
(EN)The invention relates to a method and a device for producing polychlorosilanes from monomeric chlorosilanes by exposing the chlorosilanes to a thermal plasma.
(FR)Procédé et dispositif de production de polychlorosilanes à partir de chlorosilanes monomères, ledit procédé consistant à exposer les chlorosilanes à un plasma thermique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)