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1. (WO2014172662) CONDITIONNEURS DE TAMPONS DE POLISSAGE CHIMICOMÉCANIQUE MULTIDISQUES ET PROCÉDÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/172662    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/034688
Date de publication : 23.10.2014 Date de dépôt international : 18.04.2014
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : CHEN, Hung; (US).
CHANG, Shou-Sung; (US).
FUNG, Jason Garcheung; (US).
GALLELLI, Matthew A.; (US).
BUTTERFIELD, Paul D.; (US).
CHOU, Kevin; (US)
Mandataire : DUGAN, Brian M.; Dugan & Dugan, PC 245 Saw Mill River Road, Suite 309 Hawthorne, New York 10532 (US)
Données relatives à la priorité :
61/814,182 19.04.2013 US
Titre (EN) MULTI-DISK CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD CONDITIONERS AND METHODS
(FR) CONDITIONNEURS DE TAMPONS DE POLISSAGE CHIMICOMÉCANIQUE MULTIDISQUES ET PROCÉDÉS
Abrégé : front page image
(EN)A pad conditioner may include multiple independently mounted conditioning elements configured to condition a polishing pad used in, e.g., a chemical mechanical polishing (CMP) process. In some embodiments, the pad conditioner may include a main assembly disk and a main assembly base plate attached to the main assembly disk via a gimbal connection. A plurality of pad conditioner assemblies may be attached to the main assembly base plate. In some embodiments, each pad conditioner assembly may include a pad conditioner disk attached to the main assembly base plate, a pad conditioner base attached to the pad conditioner disk via a gimbal connection, and a conditioning element attached to the pad conditioner base. Methods of conditioning a polishing pad are also provided, as are other aspects.
(FR)L'invention concerne un conditionneur de tampon qui peut comprendre plusieurs éléments de conditionnement montés indépendamment servant à conditionner un tampon de polissage utilisé, par ex., dans un processus de polissage chimicomécanique (CMP). Selon certains modes de réalisation, le conditionneur de tampon peut comprendre un disque d'assemblage principal et une plaque de base d'assemblage principal fixée au disque d'assemblage principal via un raccordement par cardan. Une pluralité d'assemblages de conditionneur de tampon peuvent être fixés à la plaque de base d'assemblage principal. Selon certains modes de réalisation, chaque assemblage conditionneur de tampon peut comprendre un disque de conditionneur de tampon fixé à la plaque de base d'assemblage principal, une base de conditionneur de tampon fixée au disque de conditionneur de tampon via un raccordement par cardan et un élément de conditionnement fixé à la base de conditionneur de tampon. L'invention concerne aussi des procédés consistant à conditionner des tampons de polissage, ainsi que d'autres aspects.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)