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1. (WO2014171946) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES POUR MARQUER ET DÉTECTER LES DÉFAUTS DANS UNE COUCHE DE GRAPHÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/171946    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/037175
Date de publication : 23.10.2014 Date de dépôt international : 18.04.2013
CIB :
G01N 21/91 (2006.01)
Déposants : EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC [US/US]; 2711 Centerville Road, Ste. 400 Wilmington, DE 19808 (US)
Inventeurs : YAGER, Thomas, A.; (US).
MILLER, Seth, Adrian; (US)
Mandataire : RUBIN, Steven, S.; Moritt Hock & Hamroff LLP 400 Garden City Plaza, Ste. 202 Garden City, NY 11530 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR LABELING AND DETECTING DEFECTS IN A GRAPHENE LAYER
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES POUR MARQUER ET DÉTECTER LES DÉFAUTS DANS UNE COUCHE DE GRAPHÈNE
Abrégé : front page image
(EN)Fluorophores or other indicators can be used to label and identify one or more defects in a graphene layer by localizing at the one or more defects and not at other areas of the graphene layer. A substrate having a surface at least partially covered by the graphene layer may be contacted with the fluorophore such that the fluorophore selectively binds with one or more areas of the surface of the underlying substrate exposed by the one or more defects. The one or more defects can be identified by exposing the substrate to radiation. A detected fluorescence response of the fluorophore to the radiation identifies the one or more defects.
(FR)L'invention concerne des fluorophores ou d'autres indicateurs qui peuvent être utilisés pour marquer et identifier un ou plusieurs défauts dans une couche de graphène par la localisation au niveau d'un ou plusieurs défauts et pas au niveau d'autres zones de la couche de graphène. Un substrat ayant une surface au moins partiellement recouverte par la couche de graphène peut être mis en contact avec le fluorophore, de sorte que le fluorophore se lie sélectivement avec une ou plusieurs zones de la surface du substrat sous-jacent exposé par un ou plusieurs défauts. Lesdits défauts peuvent être identifiés par l'exposition du substrat à un rayonnement. La détection d'une réponse de fluorescence du fluorophore au rayonnement identifie un ou plusieurs défauts.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)