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1. (WO2014168312) COMPOSÉ PRÉCURSEUR CONTENANT UN MÉTAL DE TRANSITION DU GROUPE IV, ET PROCÉDÉ POUR DÉPOSER UNE COUCHE MINCE UTILISANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/168312    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/011370
Date de publication : 16.10.2014 Date de dépôt international : 09.12.2013
CIB :
C07F 7/00 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01)
Déposants : UP CHEMICAL CO., LTD. [KR/KR]; (Chilgoe-dong), 81, Sandan-ro 197beon-gil, Pyeongtaek-si Gyeonggi-do 459-050 (KR)
Inventeurs : HAN, Won Seok; (KR)
Mandataire : MAPS INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; (Jeil Pharmaceutical Bldg., Banpo-dong), 4F, 343, Sapyoung-daero, Seocho-gu Seoul 137-810 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0142119 07.12.2012 KR (Priority Withdrawn 10.03.2014)
10-2013-0038326 08.04.2013 KR
10-2013-0152574 09.12.2013 KR
Titre (EN) GROUP IV TRANSITION METAL-CONTAINING PRECURSOR COMPOUND, AND METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM USING SAME
(FR) COMPOSÉ PRÉCURSEUR CONTENANT UN MÉTAL DE TRANSITION DU GROUPE IV, ET PROCÉDÉ POUR DÉPOSER UNE COUCHE MINCE UTILISANT CELUI-CI
(KO) 4 족 전이금속-함유 전구체 화합물 및 이를 이용하는 박막의 증착 방법
Abrégé : front page image
(EN)The present application relates to a group IV transition metal-containing precursor compound, to a method for preparing the precursor compound, to a precursor composition for deposition of a thin film comprising the precursor compound, and to a method for depositing the thin film using the precursor compound.
(FR)La présente invention concerne un composé précurseur contenant un métal de transition du groupe IV, un procédé pour préparer le composé précurseur, une composition de précurseur pour le dépôt d’un film mince comprenant le composé précurseur, et un procédé pour déposer le film mince au moyen du composé précurseur.
(KO)본원은 4 족 전이금속-함유 전구체 화합물, 상기 전구체 화합물의 제조 방법, 상기 전구체 화합물을 포함하는 박막 증착용 전구체 조성물, 및 상기 전구체 화합물을 이용하는 박막의 증착 방법에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)