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1. (WO2014168259) PROCEDE DE PRODUCTION DE FILM ANISOTROPE DE FACON OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/168259    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/060885
Date de publication : 16.10.2014 Date de dépôt international : 10.04.2014
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), B05D 3/00 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G02F 1/13363 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : KOBAYASHI, Tadahiro; (JP)
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; c/o Sumitomo Chemical Company, Limited, 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-082698 11.04.2013 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING OPTICALLY ANISOTROPIC FILM
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE FILM ANISOTROPE DE FACON OPTIQUE
(JA) 光学異方性フィルムの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This method for producing an optically anisotropic film contains the following steps (1) to (3): (1) a step for applying a composition for forming an optically anisotropic layer to a substrate surface or the surface of an alignment layer formed at the substrate surface; (2) a step for forming a dried coating film by drying the applied composition for forming an optically anisotropic layer; and (3) a step for forming an optically anisotropic film by cooling the dried coating film at a speed of at least 6°C/sec.
(FR)Ce procédé de production d'un film anisotrope de façon optique contient les étapes suivantes (1) à (3) : (1) une étape pour appliquer une composition pour former une couche anisotrope de façon optique à une surface de substrat ou à la surface d'une couche d'alignement formée à la surface du substrat ; (2) une étape pour former un film de revêtement séché par séchage de la composition appliquée pour former une couche anisotrope de façon optique ; et (3) une étape pour former un film anisotrope de façon optique par refroidissement du film de revêtement séché à une vitesse d'au moins 6°C/sec.
(JA)以下の(1)~(3)の工程を含む光学異方性フィルムの製造方法。 (1)基材表面、又は、基材表面に形成された配向層表面に光学異方層形成用組成物を塗布する工程 (2)塗布された光学異方層形成用組成物を乾燥して乾燥被膜を形成する工程 (3)前記乾燥被膜を6℃/sec以上の速度で冷却することにより光学異方性フィルムを形成する工程
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)