WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014168059) STRUCTURE MULTICOUCHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/168059    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/059768
Date de publication : 16.10.2014 Date de dépôt international : 02.04.2014
CIB :
B32B 27/32 (2006.01), B32B 1/08 (2006.01), C08G 69/40 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
Inventeurs : SATO, Kazuya; (JP).
KATO, Tomonori; (JP).
KIKUCHI, Mayumi; (JP)
Mandataire : OHTANI, Tamotsu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-081476 09.04.2013 JP
2013-081482 09.04.2013 JP
Titre (EN) MULTILAYERED STRUCTURE
(FR) STRUCTURE MULTICOUCHE
(JA) 多層構造体
Abrégé : front page image
(EN)The present invention comprises a multilayered structure that has a polyamide layer (A) and a polyether-polyamide layer (B). The present invention also comprises a multilayered structure that has a polyolefin layer (C) and a polyether-polyamide layer (B), wherein: the abovementioned polyamide layer (A) contains a polyamide (a) in which diamine constitutional units include constitutional units derived from a xylylenediamine (a-1) and dicarboxylic-acid constitutional units include constitutional units derived from a C4-20 α,ω-linear aliphatic carboxylic acid (a-2); and the abovementioned polyether-polyamide layer (B) contains a polyether-polyamide (b) in which diamine constitutional units include constitutional units derived from a polyether-diamine compound (b-1) having a specific structure and a xylylenediamine (b-2) and dicarboxylic-acid constitutional units include constitutional units derived from a C4-20 α,ω-linear aliphatic carboxylic acid (b-3).
(FR)La présente invention concerne une structure multicouche qui a une couche de polyamide (A) et une couche de polyéther polyamide (B). La présente invention concerne aussi une structure multicouche qui a une couche de polyoléfine (C) et une couche de polyéther polyamide (B), dans laquelle : la couche de polyamide mentionnée ci-dessus (A) contient un polyamide (a) dans lequel des unités constitutionnelles de diamine comprennent des unités constitutionnelles dérivées en provenance d'une xylylènediamine (a-1) et des unités constitutionnelles d'acide dicarboxylique comprennent des unités constitutionnelles dérivées en provenance d'un acide carboxylique aliphatique linéaire C4 - 20 α,ω (a-2) ; et la couche de polyéther polyamide mentionnée ci-dessus (B) contient un polyéther polyamide (b) dans lequel des unités constitutionnelles de diamine comprennent des unités constitutionnelles dérivées en provenance d'un composé de polyéther-diamine (b-1) ayant une structure spécifique et une xylylènediamine (b-2) et des unités constitutionnelles d'acide dicarboxylique comprennent des unités constitutionnelles en provenance d'un acide carboxylique aliphatique linéaire C4 - 20 α,ω (b-3).
(JA) 本発明は、ポリアミド層(A)及びポリエーテルポリアミド層(B)を有する多層構造体、並びにポリオレフィン層(C)及びポリエーテルポリアミド層(B)を有する多層構造体であって、上記ポリアミド層(A)が、ジアミン構成単位がキシリレンジアミン(a-1)に由来する構成単位を含み、ジカルボン酸構成単位が炭素数4~20のα,ω-直鎖脂肪族ジカルボン酸(a-2)に由来する構成単位を含むポリアミド(a)を含有し、 上記ポリエーテルポリアミド層(B)が、ジアミン構成単位が特定の構造を有するポリエーテルジアミン化合物(b-1)及びキシリレンジアミン(b-2)に由来する構成単位を含み、ジカルボン酸構成単位が炭素数4~20のα,ω-直鎖脂肪族ジカルボン酸(b-3)に由来する構成単位を含むポリエーテルポリアミド(b)を含有する多層構造体である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)