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1. (WO2014167884) RÉSEAU DE DIFFRACTION, ÉLÉMENT À RÉSEAUX DE DIFFRACTION, ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES LES COMPRENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/167884    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/052332
Date de publication : 16.10.2014 Date de dépôt international : 31.01.2014
CIB :
H01J 37/26 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : HARADA, Ken; (JP).
KOHASHI, Teruo; (JP).
IWANE, Tomohiro; (JP).
TAMAKI, Hirokazu; (JP)
Mandataire : TSUTSUI, Yamato; Tsutsui & Associates, 3F, Shinjuku Gyoen Bldg., 3-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2013/061007 12.04.2013 JP
Titre (EN) DIFFRACTION GRATING, DIFFRACTION GRATING ELEMENT, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE EQUIPPED WITH SAME
(FR) RÉSEAU DE DIFFRACTION, ÉLÉMENT À RÉSEAUX DE DIFFRACTION, ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES LES COMPRENANT
(JA) 回折格子、または回折格子素子、またはそれらを備えた荷電粒子線装置
Abrégé : front page image
(EN)This charged particle beam device generates an electron vortex beam by passing a charged particle beam through (A) a diffraction grating which includes a plurality of edge dislocations of differing orders, or (B) a diffraction grating element comprising a plurality of diffraction gratings which include edge dislocations of differing orders. The electron vortex beam has a plurality of ring-like diffraction spots of differing diameters which overlap on the diffraction image plane, and therefore is suited to devices for which it is necessary to irradiate a wide sample region, such as a transmission electron microscope.
(FR)La présente invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées qui génère un faisceau à vortex électronique par passage d'un faisceau de particules chargées à travers (A) un réseau de diffraction qui comprend une pluralité de dislocations coins d'ordres différents, ou (B) un élément à réseaux de diffraction comprenant une pluralité de réseaux de diffraction qui comprennent des dislocations coins d'ordres différents. Le faisceau à vortex électronique comprend une pluralité de taches de diffraction annulaires de diamètres différents qui se chevauchent sur le plan d'image de diffraction, et est donc approprié pour des dispositifs pour lesquels il est nécessaire d'exposer une large région d'échantillon, tels qu'un microscope électronique en transmission.
(JA)本発明の荷電粒子線装置は、荷電粒子線を(A)次数の異なる刃状転位を複数含む回折格子、あるいは(B)次数の異なる刃状転位を含む複数の回折格子、からなる回折格子素子を通過させることにより、電子らせん波を生成する。前記電子らせん波は、回折像面において径の異なる複数のリング状回折スポットが重畳されているので、透過型電子顕微鏡など、広く試料の領域を照射することが必要な装置に適したものとなる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)