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1. (WO2014167750) DISPOSITIF D'ÉCRITURE À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ D'ÉCRITURE À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/167750    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/082771
Date de publication : 16.10.2014 Date de dépôt international : 06.12.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIPPON CONTROL SYSTEM CORPORATION [JP/JP]; 1-20-18, Ebisu, Shibuya-ku, Tokyo 1500013 (JP)
Inventeurs : TAO, Takuya; (JP).
HAMAJI, Masakazu; (JP)
Mandataire : TANIGAWA, Hidekazu; P.O. Box 53, OMM Building 8F, 7-31, Otemae 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400008 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-083377 11.04.2013 JP
Titre (EN) ELECTRON BEAM WRITING DEVICE, ELECTRON BEAM WRITING METHOD, AND RECORDING MEDIUM
(FR) DISPOSITIF D'ÉCRITURE À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ D'ÉCRITURE À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) 電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、および記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] In a conventional electron beam writing device, the total number of rectangles when fracturing has been large, and writing time has been long. [Solution] An electron beam writing device is provided with: a receiving unit which receives input feature information which is information indicating one or more features; a feature width acquisition unit which acquires widths of each of one or more features indicated by the input feature information; a creation unit which creates approximate feature information indicating one or more approximate features, which are features configured from one or more rectangles that conform with widths of the first-mentioned features, and which are features approximating each of the one or more features indicated by the input feature information; and a writing unit which writes the one or more approximate features indicated by the approximate feature information created by the creation unit. By way of the electron beam writing device, it is possible to reduce the total number of rectangles when fracturing and thereby reduce writing time.
(FR)La présente invention a pour objectif de résoudre, dans un dispositif d'écriture à faisceau électronique classique, les problèmes du trop grand nombre total de rectangles lors d'une fracturation et de longueur du temps d'écriture. Pour ce faire, un dispositif d'écriture à faisceau électronique comprend : une unité de réception qui reçoit des informations d'éléments d'entrée qui sont des informations indiquant un ou plusieurs éléments ; une unité d'acquisition de largeurs d'éléments qui acquiert les largeurs d'un ou de plusieurs éléments indiqués par les informations d'éléments d'entrée ; une unité de création qui crée des informations d'éléments approximatifs indiquant un ou plusieurs éléments approximatifs qui sont des éléments configurés à partir d'un ou de plusieurs rectangles qui sont conformes aux largeurs desdits éléments et qui sont des éléments s'approchant d'un ou de plusieurs éléments indiqués par les informations d'élément d'entrée ; et une unité d'écriture qui écrit le ou les éléments approximatifs indiqués par les informations d'éléments approximatifs créés par l'unité de création. Par le biais de ce dispositif d'écriture à faisceau électronique, il est possible de réduire le nombre total de rectangles lors de la fracturation, et de ce fait de réduire le temps d'écriture.
(JA)【課題】従来の電子ビーム描画装置では、フラクチャリング時の合計の矩形数が多く、描画時間が長かった。 【解決手段】1以上の図形を示す情報である入力図形情報を受け付ける受付部と、入力図形情報が示す1以上の各図形の幅を取得する図形幅取得部と、図形の幅に適合する1以上の矩形から構成される図形であり、入力図形情報が示す1以上の各図形に近似する図形である1以上の近似図形を示す近似図形情報を作成する作成部と、作成部が作成した近似図形情報が示す1以上の近似図形を描画する描画部とを備える電子ビーム描画装置により、フラクチャリング時の合計の矩形数を減らし、描画時間を減らすことができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)