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1. (WO2014167699) RÉSEAU DE DIFFRACTION, ÉLÉMENT DE RÉSEAU DE DIFFRACTION ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ÉQUIPÉ DUDIT RÉSEAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/167699    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/061007
Date de publication : 16.10.2014 Date de dépôt international : 12.04.2013
CIB :
H01J 37/295 (2006.01), H01J 37/26 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : HARADA Ken; (JP).
KOHASHI Teruo; (JP).
IWANE Tomohiro; (JP).
TAMAKI Hirokazu; (JP)
Mandataire : INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DIFFRACTION GRATING, DIFFRACTION GRATING ELEMENT, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE EQUIPPED WITH SAME
(FR) RÉSEAU DE DIFFRACTION, ÉLÉMENT DE RÉSEAU DE DIFFRACTION ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ÉQUIPÉ DUDIT RÉSEAU
(JA) 回折格子、または回折格子素子、またはそれらを備えた荷電粒子線装置
Abrégé : front page image
(EN)This charged particle beam device generates an electron vortex beam by passing a charged particle beam through (A) a diffraction grating which includes a plurality of edge dislocations of differing orders, or (B) a diffraction grating element comprising a plurality of diffraction gratings which include edge dislocations of differing orders. The electron vortex beam has a plurality of ring-like diffraction spots of differing diameters which overlap on the diffraction image plane, and therefore is suited to devices for which it is necessary to irradiate a wide sample region, such as a transmission electron microscope.
(FR)L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées qui génère un faisceau d'électrons à vortex par le passage d'un faisceau de particules chargées à travers (A) un réseau de diffraction qui comprend une pluralité de dislocations marginales d'ordres différents, ou (B) un élément de réseau de diffraction comportant une pluralité de réseaux de diffraction qui comprennent des dislocations marginales d'ordres différents. Le faisceau d'électrons à vortex possède une pluralité de points de diffraction en forme d'anneau de diamètres différents, qui se chevauchent sur le plan d'image de diffraction, et, par conséquent, ledit faisceau est adapté à des dispositifs pour lesquels il est nécessaire d'irradier une large zone d'échantillon, tel qu'un microscope électronique de transmission.
(JA)本発明の荷電粒子線装置は、荷電粒子線を(A)次数の異なる刃状転位を複数含む回折格子、あるいは、(B)次数の異なる刃状転位を含む複数の回折格子からなる回折格子素子、を通過させることにより、電子らせん波を生成する。前記電子らせん波は、回折像面において径の異なる複数のリング状回折スポットが重畳されているので、透過型電子顕微鏡など、広く試料の領域を照射することが必要な装置に適したものとなる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)