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1. (WO2014165111) DISPOSITIF D'ÉLECTROACUPUNCTURE IMPLANTABLE EMPLOYANT UNE PILE BOUTON À HAUTE IMPÉDANCE COMME SOURCE D'ALIMENTATION PRIMAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/165111    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/024430
Date de publication : 09.10.2014 Date de dépôt international : 12.03.2014
CIB :
A61N 1/05 (2006.01), A61N 1/36 (2006.01), A61N 1/375 (2006.01)
Déposants : VALENCIA TECHNOLOGIES CORPORATION [US/US]; 28464 Westinghouse Place Valencia, California 91355 (US)
Inventeurs : PETERSON, David K.L.; (US).
GREINER, Jeffrey H.; (US).
THENUWARA, Chuladatta; (US).
GREINER, Stacy O.; (US)
Mandataire : GOLD, Bryant R.; 28464 Westinghouse Place Valencia, California 91355 (US)
Données relatives à la priorité :
61/778,018 12.03.2013 US
61/778,078 12.03.2013 US
61/778,061 12.03.2013 US
Titre (EN) IMPLANTABLE ELECTROACUPUNCTURE DEVICE EMPLOYING A HIGH IMPEDANCE COIN-CELL BATTERY AS A PRIMARY POWER SOURCE
(FR) DISPOSITIF D'ÉLECTROACUPUNCTURE IMPLANTABLE EMPLOYANT UNE PILE BOUTON À HAUTE IMPÉDANCE COMME SOURCE D'ALIMENTATION PRIMAIRE
Abrégé : front page image
(EN)An implantable electroacupuncture (ΕΞΑ) device provides stimulation pulses (219) applied at a specified acupoint or other target tissue location for the treatment of specific condition. In a preferred implementation, the EA device is implantable, thin, coin-sized, self- contained and leadless (FIG. 1) having at least two electrodes (110, 120) attached to an outside surface of its housing (122, 124). The EA device generates stimulation pulses in accordance with a specified stimulation regimen (FIGS. 15A, 15B). Power management circuitry (200, 210) within the device allows a thin, coin-cell primary battery (215), having a high internal impedance, to be used to power the device. The stimulation regimen generates stimulation pulses having an amplitude of up to 25 mA during a stimulation session of duration T3 minutes applied every T4 minutes. The duty cycle, or ratio T3/T4, is very low, no greater than 0.05. The low duty cycle and careful power management allow the device to perform its intended function for several years.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'électroacupuncture (EA) implantable fournissant des impulsions de stimulation (219) appliquées à un point d'acupuncture spécifié ou un autre emplacement de tissu cible pour le traitement d'un état spécifique. Dans une mise en œuvre préférée, le dispositif d'EA est implantable, fin, de la taille d'une pièce de monnaie, autonome et sans fil (FIG. 1), doté d'au moins deux électrodes (110, 120) fixées à une surface externe de son logement (122, 124). Le dispositif EA génère des impulsions de stimulation en conformité avec un régime de stimulation spécifié (FIG. 15A, 15B). Un circuit de gestion de l'alimentation (200, 210) à l'intérieur du dispositif permet l'utilisation d'une pile bouton primaire fine (215), ayant une haute impédance interne, pour alimenter le dispositif. Le régime de stimulation génère des impulsions de stimulation ayant une amplitude pouvant aller jusqu'à 25 mA pendant une session de stimulations d'une durée de T3 minutes appliquées toutes les T4 minutes. Le cycle de service, ou rapport T3/T4, est très bas, ne dépassant pas 0,05. Le cycle de service bas et la gestion rigoureuse de l'alimentation permettent au dispositif de réaliser sa fonction prévue pendant plusieurs années.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)