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1. (WO2014164140) ENSEMBLES OBTURATEURS MEMS POUR AFFICHAGES HAUTE RÉSOLUTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/164140    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/020796
Date de publication : 09.10.2014 Date de dépôt international : 05.03.2014
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.01.2015    
CIB :
G02B 26/02 (2006.01), G02B 27/00 (2006.01)
Déposants : PIXTRONIX, INC. [US/US]; Attn: International IP Administration 5775 Morehouse Drive San Diego, California 92121-1714 (US)
Inventeurs : BROSNIHAN, Timothy J.; (US).
VILLARREAL, Javier; (US).
ANDERSSON, Mark B.; (US)
Mandataire : GORDON, Edward A.; Foley & Lardner LLP 3000 K Street N.W., Suite 600 Washington, District of Columbia 20007-5109 (US)
Données relatives à la priorité :
13/800,459 13.03.2013 US
Titre (EN) MEMS SHUTTER ASSEMBLIES FOR HIGH-RESOLUTION DISPLAYS
(FR) ENSEMBLES OBTURATEURS MEMS POUR AFFICHAGES HAUTE RÉSOLUTION
Abrégé : front page image
(EN)This disclosure provides systems, methods and apparatus for providing compact shutter assemblies. Shutter assemblies can be formed in a more compact fashion, allowing for higher pixel-per-inch displays, by incorporating shutters that during actuation pass over or under portions of the actuators that control those shutters.
(FR)La présente divulgation concerne des systèmes, procédés et appareils pour fournir des ensembles obturateurs compacts. Les ensembles obturateurs peuvent être formés d'une manière plus compacte, permettant des affichages avec plus de pixels par pouce, en incorporant des obturateurs, qui au cours de leur actionnement, passent sur ou sous des parties des actionneurs qui commandent ces obturateurs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)