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1. (WO2014163352) SUBSTRAT DE CAPOT EN POLYIMIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/163352    N° de la demande internationale :    PCT/KR2014/002733
Date de publication : 09.10.2014 Date de dépôt international : 31.03.2014
CIB :
B32B 27/08 (2006.01), B32B 27/34 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01)
Déposants : KOLON INDUSTRIES, INC. [KR/KR]; Kolon Tower, 11, Kolon-ro Gwacheon-si Gyeonggi-do 446-505 (KR)
Inventeurs : WOO, Hak Yong; (KR).
JUNG, Hak Gee; (KR).
HONG, Ki ll; (KR)
Mandataire : KYUNG, Jin Young; 1004ho, 8, Teheran-ro 7-gil Gangnam-gu Seoul 135-911 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2013-0035605 02.04.2013 KR
Titre (EN) POLYIMIDE COVER SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE CAPOT EN POLYIMIDE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polyimide cover substrate, which is configured such that a device protection layer is formed of a urethane acrylate compound on at least one side of a polyimide film, thereby exhibiting not only high flexural properties and impact resistance but also superior solvent resistance, optical properties and scratch resistance and low water vapor transmission rate, and thus can be effectively utilized as a cover substrate for a flexible electronic device.
(FR)L'invention porte sur un substrat de capot en polyimide, qui est conçu de façon à ce qu'une couche de protection de dispositif constituée d'un composé d'uréthane-acrylate soit formée sur au moins un côté d'un film de polyimide, présentant ainsi non seulement des propriétés de flexion élevées et une haute résistance au choc mais également une résistance aux solvants, des propriétés optiques et une résistance à la rayure supérieures et un faible coefficient de transmission de la vapeur d'eau et donc il peut être utilisé efficacement comme substrat de capot pour un dispositif électronique souple.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)