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1. (WO2014163041) FILM DE TRANSFERT ET SUBSTRAT À STRUCTURE EN RELIEF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/163041    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/059465
Date de publication : 09.10.2014 Date de dépôt international : 31.03.2014
CIB :
B32B 27/00 (2006.01), B32B 3/30 (2006.01), B32B 27/16 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventeurs : YAMADA, Emi; (JP).
TANAKA, Shotaro; (JP).
SUZUKI, Motoyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-079191 05.04.2013 JP
Titre (EN) TRANSFER FILM AND SUBSTRATE WITH RELIEF STRUCTURE
(FR) FILM DE TRANSFERT ET SUBSTRAT À STRUCTURE EN RELIEF
(JA) 転写フィルムおよび凹凸構造付基板
Abrégé : front page image
(EN)A transfer film configured from a support film having a relief pattern on the surface and a transfer layer containing a siloxane composition, said siloxane composition containing a photoacid generator or a photobase generator. The purpose of the present invention is to provide a transfer film or cross-linked transfer film for easily forming a siloxane layer, the surface relief pattern of which does not easily collapse, on a substrate with a large area. The invention also provides a substrate with a relief structure having a cross-linked transfer layer.
(FR)L'invention concerne un film de transfert configuré à partir d'un film de support ayant un motif en relief sur la surface et une couche de transfert contenant une composition de siloxane, ladite composition de siloxane contenant un générateur photo-acide ou un générateur photo-base. L'objectif de la présente invention consiste à proposer un film de transfert ou un film de transfert réticulé pour former facilement une couche de siloxane, dont le motif en relief sur la surface ne s'affaisse pas facilement, sur un substrat ayant une grande superficie. L'invention concerne également un substrat à structure en relief ayant une couche de transfert réticulée.
(JA)表面に凹凸形状を有する支持体フィルムとシロキサン組成物を含む転写層で構成され、該シロキサン組成物が光酸発生剤または光塩基発生剤を含む転写フィルム。大面積の基板に、表面の凹凸形状が崩れにくいシロキサン層を簡便に形成するための転写フィルムまたは架橋転写フィルムを提供すること。また、架橋転写層を有する凹凸構造付基板を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)