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1. (WO2014162557) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN ÉCHANTILLON POUR MALDI ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/162557    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/060322
Date de publication : 09.10.2014 Date de dépôt international : 04.04.2013
CIB :
G01N 27/64 (2006.01)
Déposants : SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-Kuwabara-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP)
Inventeurs : OGATA, Koretsugu; (JP).
TAKAHASHI, Kazuteru; (JP)
Mandataire : KYOTO INTERNATIONAL PATENT LAW OFFICE; Hougen-Sizyokarasuma Building, 37, Motoakuozi-tyo, Higasinotouin Sizyo-sagaru, Simogyo-ku, Kyoto-si, Kyoto 6008091 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) MALDI SAMPLE PREPARATION METHOD AND SAMPLE PREPARATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN ÉCHANTILLON POUR MALDI ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
(JA) MALDI用試料調製方法及び試料調製装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention involves adhering a sample such as a biological tissue section to a conductive glass slide (S1), and then forming a film layer from an appropriate matrix material by using vacuum deposition so as to cover the sample (S2). The crystals in the matrix material in the film layer are extremely fine and highly uniform. The present invention involves next placing the glass slide on which the matrix film layer is formed in a vaporization solvent atmosphere, and impregnating the matrix film layer with the solvent (S3). When the sufficiently impregnated solvent vaporizes, the substance to be measured in the sample is incorporated into the matrix and re-crystallizes. Furthermore, the present invention involves forming a matrix film layer on the surface again by vacuum deposition (S4). The additional matrix film layer absorbs excess laser beam energy during MALDI, and suppresses alteration and the like of the substance to be measured; hence, it is possible to achieve high detection sensitivity while maintaining high spatial resolution.
(FR)Cette invention consiste à faire adhérer un échantillon tel qu'un fragment de tissue biologique à une lame en verre conductrice (S1), puis à former une couche formant film à partir d'un matériau de matrice approprié par un procédé de dépôt sous vide de façon à recouvrir l'échantillon (S2). Les cristaux dans le matériau de matrice de la couche formant film sont extrêmement fins et très homogènes. Cette invention consiste ensuite à placer la lame en verre sur laquelle la couche formant film de matrice est formée dans une atmosphère de solvant de vaporisation, et à imprégner la couche formant film de matrice avec le solvant (S3). Quand le solvant suffisamment imprégné se vaporise, la substance à mesurer dans l'échantillon s'incorpore dans la matrice et re-cristallise. De plus, cette invention consiste à former une couche formant film de matrice sur la surface de nouveau par un procédé de dépôt sous vide (S4). Cette couche formant film de matrice absorbe l'énergie du faisceau laser en excédent lors de l'ionisation MALDI, et supprime l'altération et autre de la substance à mesurer ; il est de ce fait possible d'obtenir une sensibilité de détection élevée tout en conservant une résolution spatiale élevée.
(JA) 導電性スライドガラスに生体組織切片などのサンプルを貼り付けたあと(S1)、真空蒸着により、サンプルを被覆するように適宜のマトリクス物質による膜層を形成する(S2)。この膜層中のマトリクス物質の結晶は非常に細かく均一性も高い。次いで、マトリクス膜層を形成したスライドガラスを気化溶媒雰囲気中に置き、マトリクス膜層中に溶媒を浸潤させる(S3)。充分に浸潤した溶媒が気化する際に、サンプル中の測定対象物質がマトリクス中に取り込まれ再結晶化する。さらに、真空蒸着により、その表面にマトリクス膜層を再度形成する(S4)。追加されたマトリクス膜層はMALDIの際にレーザ光の過剰なエネルギを吸収し、測定対象物質の変性等を抑制するので、高空間分解能を保ちつつ高い検出感度を達成できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)