WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014157358) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/157358    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/058577
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 26.03.2014
CIB :
H01L 21/68 (2006.01), B23Q 7/04 (2006.01)
Déposants : HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1018980 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI, Akira; (JP).
YASUI, Takeshi; (JP).
OGAWA, Hiroyuki; (JP).
NABETA, Kazuya; (JP).
MATSUURA, Naoya; (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-068318 28.03.2013 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND RECORDING MEDIUM
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)The present invention places a substrate at a predetermined position on a susceptor even if the substrate is shifted on tweezers. The present invention has: a processing chamber, which has a substrate placing table having, on a same circumference, first and second substrate placing sections for placing substrates, and a rotating mechanism for rotating the substrate placing table, and in which the substrates placed on the first and second substrate placing sections are processed; a transfer chamber, which is provided adjacent to the processing chamber, and has a substrate transfer apparatus, which transfers the substrates to the first and second substrate placing sections and places the substrates on the substrate placing sections; a substrate presence/absence detector that detects presence/absence of the substrates in the transfer chamber; a storage unit that stores first placing section reference position information indicating a reference position of the substrate transfer apparatus for placing the substrate on the first substrate placing section, second placing section reference position information indicating a reference position of the substrate transfer apparatus for placing the substrate on the second substrate placing section, and substrate position reference information indicating a reference position of the substrate being transferred in the transfer chamber; and a control unit, which generates, on the basis of the substrate presence/absence information detected by means of the substrate presence/absence detector, detection position information indicating a position of the substrate being transferred in the transfer chamber, and which controls a position where the substrate is to be placed on the second substrate placing section by means of the substrate transfer apparatus, said position being controlled on the basis of the detection position information, the first placing section reference position information, difference information between the first placing section reference position information and the second placing section reference position information, and the substrate position reference information.
(FR)La présente invention place un substrat en une position préétablie sur un suscepteur même si le substrat est décalé sur des pinces. La présente invention a : une chambre de traitement qui a une table de placement de substrat ayant, sur une même circonférence des première et seconde sections de placement de substrat permettant de placer des substrats et un mécanisme rotatif permettant de faire tourner la table de placement de substrat, et dans laquelle les substrats placés sur les première et seconde sections de placement de substrat sont traités ; une chambre de transfert, laquelle est disposée de manière adjacente à la chambre de traitement et a un appareil de transfert de substrat, lequel transfère les substrats vers les première et seconde sections de placement de substrat et place les substrats sur les sections de placement de substrat ; un détecteur de présence/absence de substrat qui détecte la présence/absence des substrats dans la chambre de transfert ; une unité de mémoire qui mémorise des informations de position de référence de première section de placement indiquant une position de référence de l'appareil de transfert de substrat permettant de placer le substrat sur la première section de placement de substrat, des informations de position de référence de seconde section de placement indiquant une position de référence de l'appareil de transfert de substrat permettant de placer le substrat sur la seconde section de placement de substrat et des informations de référence de position de substrat indiquant une position de référence du substrat qui est transféré dans la chambre de transfert ; et une unité de commande, laquelle génère, sur la base des informations de présence/absence de substrat détectées au moyen du détecteur de présence/absence de substrat, des informations de position de détection indiquant une position du substrat qui est transféré dans la chambre de transfert, et commande une position où le substrat doit être placé sur la seconde section de placement de substrat au moyen de l'appareil de transfert de substrat, ladite position étant commandée sur la base des informations de position de détection, des informations de position de référence de première section de placement, d'informations de différence entre les informations de position de référence de première section de placement et les informations de position de référence de seconde section de placement et des informations de référence de position de substrat.
(JA)ツイーザ上で基板がずれても、サセプタ上の所定位置に基板を載置する。 基板を載置する第一及び第二の基板載置部を同一円周上に有する基板載置台と、前記基板載置台を回転させる回転機構とを有し、前記第一及び第二の基板載置部に載置された基板を処理する処理室と、前記処理室に隣接して設けられ、前記第一及び第二の基板載置部に基板を搬送して載置する基板搬送機を有する搬送室と、前記搬送室内において基板の有無を検出する基板有無検出器と、前記第一の基板載置部に基板を載置するための前記基板搬送機の基準位置を示す第1の載置部基準位置情報と、前記第二の基板載置部に基板を載置するための前記基板搬送機の基準位置を示す第2の載置部基準位置情報と、前記搬送室内において搬送中の基板の基準位置を示す基板位置基準情報とを記憶する記憶部と、前記基板有無検出器で検出した基板有無情報に基づき、前記搬送室内において搬送中の基板位置を示す検出位置情報を作成し、該検出位置情報と、前記第1の載置部基準位置情報と、前記第1の載置部基準位置情報と前記第2の載置部基準位置情報との差分情報と、前記基板位置基準情報とに基づき、前記基板搬送機が前記第二の基板載置部に基板を載置する位置を制御する制御部と、を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)