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1. (WO2014157226) COMPOSITION DE FORMAGE DE FILM DE SOUS-COUCHE DESTINÉE AU MARQUAGE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/157226    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/058324
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 25.03.2014
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), C08F 8/00 (2006.01), C08G 59/32 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : KITAGAWA Hirotaka; (JP).
ENOMOTO Yuichiro; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-063380 26.03.2013 JP
Titre (EN) UNDERLAYER-FILM-FORMING COMPOSITION FOR IMPRINTING, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION DE FORMAGE DE FILM DE SOUS-COUCHE DESTINÉE AU MARQUAGE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) インプリント用下層膜形成組成物およびパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides an underlayer-film-forming composition for imprinting, capable of forming an underlayer film having excellent surface flatness and adhesiveness. The underlayer-film-forming composition for imprinting is characterized in containing: (A) a resin having a weight-average molecular weight of 1000 or greater, the resin having unsaturated ethylene groups (P) and cyclic ether groups (T) selected from oxiranyl groups and oxetanyl groups; and (B) a solvent.
(FR)La présente invention concerne une composition de formage de film de sous-couche destinée au marquage, capable de former un film de sous-couche présentant une excellente planéité de surface et offrant une excellente qualité d'adhésion. La composition de formage de film de sous-couche destinée au marquage est caractérisée en ce qu'elle contient : (A) une résine ayant un poids moléculaire de poids moyen supérieur ou égal à 1000, la résine comportant des groupes d'éthylène non saturés (P) et des groupes d'éther cyclique (T) choisis à partir de groupes oxyraniles et de groupes oxétanyles ; et (B) un solvant.
(JA) 表面平坦性および接着性に優れた下層膜を形成できるインプリント用下層膜形成組成物の提供。 (A)エチレン性不飽和基(P)と、オキシラニル基およびオキセタニル基から選択される環状エーテル基(T)とを有する重量平均分子量1000以上の樹脂と、(B)溶剤とを含有することを特徴とするインプリント用下層膜形成組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)