WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014156840) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/156840    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/057349
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 18.03.2014
CIB :
B24B 37/26 (2012.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : FUJIBO HOLDINGS, INC. [JP/JP]; 18-12, Nihonbashi Ningyo-cho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP).
SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. [JP/JP]; 6-2, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventeurs : ITOYAMA Kohki; (JP).
SATO Kazuya; (JP).
KOBAYASHI Shuichi; (JP).
TANAKA Yuki; (JP)
Mandataire : TSUJII Koichi; NAKAMURA & PARTNERS, Shin-Tokyo Bldg., 3-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008355 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-071895 29.03.2013 JP
Titre (EN) POLISHING PAD AND POLISHING METHOD
(FR) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨パッド及び研磨方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a polishing pad, which is capable of limiting reductions in polishing pad polishing rate by limiting clogging of the polishing surface, and which is also long-lived. The donut-shaped polishing pad (7), which is equipped with a round polishing surface (9) and the center of which has been hollowed out as a circle, is equipped with multiple circular grooves (19) formed on the polishing surface (9). Each circular groove (19) is disposed so as to form a perfect circle and to contact the circumference of the round polishing surface (9). When the radius of the circle forming the polishing surface (9) is defined as (R), the radius of the circle of the hollowed-out center as (r) and the diameter of the circular grooves (19) as (X), the relationship (R)-(r) ≤ (X) ≤ (R) holds true.
(FR)L'invention porte sur un tampon de polissage qui est apte à limiter des réductions du taux de polissage de tampon de polissage, en limitant le colmatage de la surface de polissage, et qui a aussi une longue durée utile. Le tampon de polissage en forme de couronne (7), qui est équipé d'une surface de polissage ronde (9) et dont le centre a été évidé en cercle, est équipé de multiples rainures circulaires (19) formées sur la surface de polissage (9). Chaque rainure circulaire (19) est disposée de manière à former un cercle parfait et à entrer en contact avec la circonférence de la surface de polissage ronde (9). Lorsque le rayon du cercle formant la surface de polissage (9) est défini par (R), le rayon du cercle du centre évidé par (r) et le diamètre des rainures circulaires (19) par (X), la relation (R)-(r) ≤ (X) ≤ (R) est satisfaite.
(JA) 研磨面の目詰まりを抑制することにより研磨パッドの研磨レートが低下するのを抑制することができ、且つ長寿命の研磨パッドを提供する。 円形の研磨面9を備え、中心部が円形にくり抜かれたドーナツ状の研磨パッド7は、当該研磨面9に形成された複数の環状溝19を備え、各々の環状溝19は、真円を描き、且つ円形の研磨面9の周と接するように配置され、研磨面9をなす円の半径をR、くり抜かれた中心部の円の半径をrとし、環状溝19の直径をXとした場合、R-r≦X≦Rの関係が成り立つ。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)