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1. (WO2014156467) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'HYDROGÈNE GAZEUX ET APPAREIL DE PURIFICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/156467    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/055045
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 28.02.2014
CIB :
C01B 3/56 (2006.01), B01D 53/04 (2006.01), F17B 1/12 (2006.01), F17B 1/18 (2006.01), F17B 1/10 (2006.01), F17B 1/26 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 346-1, Miyanishi, Harima-cho, Kako-gun, Hyogo 6750145 (JP)
Inventeurs : KISHII Mitsuru; (JP).
HARUNA Kazuo; (JP).
SHIMA Koichi; (JP)
Mandataire : YOSHIDA Minoru; 2-32-1301, Tamatsukuri-motomachi, Tennoji-ku, Osaka-shi, Osaka 5430014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-069582 28.03.2013 JP
Titre (EN) METHOD FOR PURIFYING HYDROGEN GAS AND PURIFICATION APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'HYDROGÈNE GAZEUX ET APPAREIL DE PURIFICATION
(JA) 水素ガスの精製方法及び精製装置
Abrégé : front page image
(EN)This method for purifying hydrogen gas comprises repeating a cycle that includes: a step for introducing a mixed gas into adsorption columns (10A-10D) packed with adsorbent, adsorbing the impurities in the mixed gas on the adsorbent, and delivering hydrogen-enriched gas enriched by hydrogen from the adsorption columns, the adsorption columns (10A-10D) being kept under relatively high pressure, and the mixed gas being introduced by a pressure swing adsorption technique that uses the adsorption columns; and a step for depressurizing the adsorption columns, desorbing the impurities from the adsorbent, and delivering the desorbed gas from the adsorption columns. The gas inside a variable-volume gas holder (2) is discharged while introducing the desorbed gas delivered from the adsorption columns into the gas holder (2) and maintaining a substantially constant pressure inside the gas holder (2).
(FR)L'invention concerne un procédé de purification d'hydrogène gazeux qui comprend la répétition d'un cycle qui comprend : une étape d'introduction d'un gaz mixte dans des colonnes d'adsorption (10A-10D) remplies d'adsorbant, l'adsorption des impuretés dans le gaz mixte sur l'adsorbant, et la délivrance d'un gaz enrichi en hydrogène par les colonnes d'adsorption, les colonnes d'adsorption (10A-10D) étant maintenues sous pression relativement élevée, et le gaz mixte étant introduit par une technique d'adsorption modulée en pression qui utilise les colonnes d'adsorption; et une étape de dépressurisation des colonnes d'adsorption, de désorption des impuretés de l'adsorbant, et de délivrance du gaz désorbé par les colonnes d'adsorption. Le gaz à l'intérieur d'un gazomètre (2) à volume variable est évacué en introduisant le gaz désorbé délivré par les colonnes d'absorption dans le gazomètre (2) et en maintenant une pression sensiblement constante à l'intérieur du gazomètre (2).
(JA)【課題】水素ガスの精製方法は、吸着剤が充填された吸着塔10A~10Dを用いて行う圧力変動吸着法により、上記吸着塔が相対的に高圧である状態にて、上記吸着塔に上記混合ガスを導入して当該混合ガス中の不純物を上記吸着剤に吸着させ、当該吸着塔から水素が富化された水素富化ガスを導出する工程と、上記吸着塔を減圧して上記吸着剤から不純物を脱着させ、当該吸着塔から脱着ガスを導出する工程と、を含むサイクルを繰り返す。上記吸着塔から導出された上記脱着ガスを容量が変化するガスホルダ2に導入しつつ、ガスホルダ2内の圧力を実質的に一定に保ちながら当該ガスホルダ2内のガスを排出する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)