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1. (WO2014156345) COMPOSITION POUR FORMER DES FILMS CONDUCTEURS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM CONDUCTEUR L'UTILISANT.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/156345    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/053144
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 12.02.2014
CIB :
C08L 101/06 (2006.01), C08K 3/08 (2006.01), C08K 3/22 (2006.01), C08L 69/00 (2006.01), C08L 71/00 (2006.01), C08L 75/04 (2006.01), H01B 1/22 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : WATANABE Toru; (JP)
Mandataire : WATANABE Mochitoshi; Yusen Iwamoto-cho Bldg. 6F., 3-3, Iwamoto-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-069120 28.03.2013 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE FILMS AND METHOD FOR PRODUCING CONDUCTIVE FILM USING SAME
(FR) COMPOSITION POUR FORMER DES FILMS CONDUCTEURS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM CONDUCTEUR L'UTILISANT.
(JA) 導電膜形成用組成物およびこれを用いる導電膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a composition for forming conductive films, which contains a polymer having a repeating unit represented by formula (1) and copper oxide particles and/or copper particles, and which is capable of forming a conductive film that exhibits excellent electrical conductivity even if firing is carried out at relatively low temperatures; and a method for forming a conductive film using this composition for forming conductive films. In formula (1), each of R1 and R2 independently represents an optionally substituted monovalent aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted monovalent aromatic hydrocarbon group, an alkyloxy group or an optionally substituted amino group, or alternatively R1 and R2 may combine together to form a ring; R3 represents a hydrogen atom, an optionally substituted monovalent aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted monovalent aromatic hydrocarbon group, an alkyloxy group or an optionally substituted amino group; and L represents a divalent linking group.
(FR)L'invention concerne une composition pour former des films conducteurs, qui contient un polymère ayant une unité répétitive représentée par la formule (1) et des particules d'oxyde de cuivre et/ou des particules de cuivre, et qui est capable de former un film conducteur qui présente une excellente conductivité électrique même si on procède à la cuisson à des températures relativement basses; et un procédé pour former un film conducteur par utilisation de cette composition pour former des films conducteurs. Dans la formule (1), chacun de R1 et R2 représente indépendamment de l'autre un groupe hydrocarboné aliphatique monovalent éventuellement substitué, un groupe hydrocarboné aromatique monovalent éventuellement substitué, un groupe alkyloxy ou un groupe amino éventuellement substitué, ou encore R1 et R2 peuvent se combiner l'un à l'autre pour former un cycle; R3 représente un atome d'hydrogène, un groupe hydrocarboné aliphatique monovalent éventuellement substitué, un groupe hydrocarboné aromatique monovalent éventuellement substitué, un groupe alkyloxy ou un groupe amino éventuellement substitué; et L représente un groupe de liaison divalent.
(JA) 式(1)で表される繰返し単位を有するポリマーと、酸化銅粒子および/または銅粒子とを含む、比較的低温で焼成しても優れた導電性を示す導電膜を形成することができる導電膜形成用組成物およびこれを用いる導電膜の形成方法が提供される。式(1)中、RおよびRは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい1価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基、アルキルオキシ基、もしくは置換基を有していてもよいアミノ基を表すか、またはRとRとが結合して環を形成してもよい。Rは、水素原子、置換基を有していてもよい1価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい1価の芳香族炭化水素基、アルキルオキシ基、または置換基を有していてもよいアミノ基を表し、Lは2価の連結基を表す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)