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1. (WO2014156233) PROCÉDÉ PERMETTANT DE TRAITER UN GUIDE D'ONDE OPTIQUE À NANOFIL DE SILICIUM

Pub. No.:    WO/2014/156233    International Application No.:    PCT/JP2014/050909
Publication Date: 2 oct. 2014 International Filing Date: 20 janv. 2014
IPC: G02B 6/13
G02B 6/122
G02B 6/30
G02B 6/42
Applicants: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
独立行政法人産業技術総合研究所
Inventors: YOSHIDA Tomoya
吉田 知也
SAKAKIBARA Youichi
榊原 陽一
MORI Masahiko
森 雅彦
NISHI Takashi
西 孝
Title: PROCÉDÉ PERMETTANT DE TRAITER UN GUIDE D'ONDE OPTIQUE À NANOFIL DE SILICIUM
Abstract:
La présente invention aborde le problème consistant à proposer un procédé permettant de traiter un guide d'onde optique à nanofil de silicium moyennant quoi une perte de propagation lumineuse dans un guide d'onde optique à nanofil de silicium par un rayonnement ionique haute énergie peut être réduite, puis une partie extrémité du guide d'onde optique à nanofil de silicium courbée de manière auto-alignée et stérique peut être obtenue. Un procédé de traitement d'un guide d'onde optique à nanofil de silicium comprend une étape permettant de préparer un substrat (11) de circuit optique sur lequel une pluralité de guides d'onde optique à nanofil de silicium sont formés par le biais d'une couche de support (12), une étape permettant de retirer la couche de support sous une partie extrémité (15) d'un guide d'onde optique à nanofil de silicium (13) souhaité qui possède la partie extrémité (15) parmi les guides d'onde optique à nanofil de silicium, une étape permettant de former sélectivement un film protecteur (14) sur le guide d'onde optique à nanofil de silicium (13) à l'exception de la partie extrémité du guide d'onde optique à nanofil de silicium, ainsi qu'une étape permettant de courber la partie extrémité (15) du guide d'onde optique à nanofil de silicium (13) d'une manière auto-alignée dans une direction spécifique par le bombardement du guide d'onde optique à nanofil de silicium (13) avec des ions provenant d'une direction spécifique.