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1. (WO2014156186) PROCÉDÉ DE GRAVURE À FILM PROTECTEUR, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF, ET MOTIF PRODUIT AU MOYEN DE CES PROCÉDÉS

Pub. No.:    WO/2014/156186    International Application No.:    PCT/JP2014/001827
Publication Date: 2 oct. 2014 International Filing Date: 28 mars 2014
IPC: B29C 33/38
B29C 33/42
H01L 21/027
H05H 1/00
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: OHTSU, Akihiko
大津 暁彦
Title: PROCÉDÉ DE GRAVURE À FILM PROTECTEUR, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF, ET MOTIF PRODUIT AU MOYEN DE CES PROCÉDÉS
Abstract:
[Problème] Permettre la formation d'un motif satisfaisant de protubérances et d'évidements dans un film de protection formé sur un substrat comportant à sa surface arrière une partie évidée. [Solution] Procédé de gravure d'un film de protection (11) dans lequel un substrat (10) doté d'un film de protection (11) est formé sur la surface avant, et une partie évidée est formée (13) sur la surface arrière du côté opposé de la surface avant, un motif de résist (12) est formé sur le film de protection (11), et grâce au motif de réserve utilisé comme un masque (12), le film de protection (11) est gravé au plasma, avec application d'une tension de polarisation. La tension de polarisation est augmentée à mesure que se réduit la constante diélectrique relative de la région correspondante (R2) du substrat (10) qui correspondent à la région revêtue (R1) sur la surface avant comportant le film de protection (11).