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1. (WO2014156114) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE VERRE POUR UN MILIEU D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/156114    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/001687
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 25.03.2014
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B24B 37/24 (2012.01), C03C 19/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-Chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP)
Inventeurs : SAKAMOTO, Akihiro; (JP).
TSUKADA, Kazuya; (JP)
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-062223 25.03.2013 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE VERRE POUR UN MILIEU D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An aspect of the present invention provides a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium, including a polishing process for polishing the surface of the glass original plate by causing the glass original plate and a polishing pad to move relative to each other while a polishing liquid is being supplied onto the glass original plate; and a cleaning process for cleaning the polished glass original plate after the polishing process. The polishing pad is a suede pad; the polishing liquid contains cerium oxide and acrylic acid-based polymers; and the weight-average molecular weight of the acrylic acid-based polymers is 10000 to 50000.
(FR)Un aspect de la présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de verre pour un milieu d'enregistrement d'informations, comprenant un procédé de polissage pour polir la surface de la plaque originale de verre en amenant la plaque originale de verre et un tampon de polissage à se déplacer l'un par rapport à l'autre tandis qu'un liquide de polissage est introduit sur la plaque originale de verre; et un procédé de nettoyage pour nettoyer la plaque originale de verre polie après le procédé de polissage. Le tampon de polissage est un tampon de velours; le liquide de polissage contient de l'oxyde de cérium et des polymères à base d'acide acrylique; et la masse moléculaire moyenne en poids des polymères à base d'acide acrylique est 10 000 à 50 000.
(JA) 本発明の一局面は、ガラス素板上に研磨液を供給した状態で、前記ガラス素板と研磨パッドとを相対的に移動させて、前記ガラス素板の表面を研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板を洗浄する洗浄工程とを備え、前記研磨パッドが、スエードパッドであり、前記研磨液が、酸化セリウムと、アクリル酸系ポリマーとを含み、前記アクリル酸系ポリマーの重量平均分子量が、10000~50000である情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)