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1. (WO2014155633) FILM DUR POUR OUTILS D’USINAGE ET OUTIL D’USINAGE DE MÉTAL REVÊTU DE FILM DUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/155633    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/059400
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 28.03.2013
CIB :
C23C 14/08 (2006.01)
Déposants : OSG CORPORATION [JP/JP]; 22, Honnogahara 3-chome, Toyokawa-shi, Aichi 4420005 (JP) (Tous Sauf US).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (Tous Sauf US).
SAKURAI Masatoshi [JP/JP]; (JP) (US only).
WANG Mei [CN/JP]; (JP) (US only).
OHCHI Toshihiro [JP/JP]; (JP) (US only).
SUTOU Yuji [JP/JP]; (JP) (US only).
KOIKE Junichi [JP/JP]; (JP) (US only).
KOMIYAMA Shoko [JP/JP]; (JP) (US only)
Inventeurs : SAKURAI Masatoshi; (JP).
WANG Mei; (JP).
OHCHI Toshihiro; (JP).
SUTOU Yuji; (JP).
KOIKE Junichi; (JP).
KOMIYAMA Shoko; (JP)
Mandataire : IKEDA Haruyuki; Ikeda Patent Office, Nagoya-Dia. Bldg. No.2, 15-1, Meieki 3-chome, Nakamura-ku, Nagoya-shi, Aichi 4500002 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) HARD FILM FOR MACHINING TOOLS AND HARD FILM-COATED METAL MACHINING TOOL
(FR) FILM DUR POUR OUTILS D’USINAGE ET OUTIL D’USINAGE DE MÉTAL REVÊTU DE FILM DUR
(JA) 加工工具用硬質被膜および硬質被膜被覆金属加工工具
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a hard film for machining tools, having excellent friction resistance, deposition resistance, and smoothness. As a result of this hard film (30) adhered to a rolling tap (10), a TiCrMoWV oxycarbide, oxynitride, or carbo-oxynitride, having a phase having a NaCl-type crystal structure as the main phase thereof, has fine crystals of no more than 100 nm as a result of the introduction of oxygen. As a consequence, the surface of the hard film becomes extremely smooth and a low friction coefficient can be obtained, therefore friction resistance, deposition resistance, and smoothness can be obtained, and tool life can be extended because the hard film has excellent smoothness and a low low-friction coefficient, in addition to friction resistance and deposition resistance.
(FR)La présente invention concerne un film dur pour des outils d’usinage, ayant des résistance au frottement, résistance au dépôt, et lissé excellents. En conséquence de l’adhésion de ce film dur (30) à un topomètre roulant (10), un oxycarbure, oxynitrure, ou carbo-oxynitrure de TiCrMoWV, ayant une phase ayant une structure de cristal de type NaCl en tant que phase principale de celui-ci, a des cristaux fins de pas plus de 100 nm en conséquence de l’introduction d’oxygène. En conséquence, la surface du film dur devient extrêmement lisse et un coefficient de frottement faible peut être obtenu, par conséquent une résistance au frottement, une résistance au dépôt, et un lissé peuvent être obtenus, et la durée de vie de l’outil peut être prolongée parce que le film dur a un excellent lissé et un coefficient de frottement faible, en plus de la résistance au frottement et la résistance au dépôt.
(JA) 優れた耐摩耗性及び耐溶着性と平滑性とを兼ね備えた加工工具用硬質被膜を提供する。 本実施例の転造タップ10に固着された硬質被膜30によれば、NaCl型結晶構造を有する相を主相とするTiCrMoWVの酸炭化物、酸窒化物、または、酸炭窒化物が、酸素の導入による100nm以下の微細結晶を有することから、硬質被膜の表面が極めて滑らかとなって低摩擦係数が得られるので、耐摩耗性及び耐溶着性と平滑性とを兼ね備えることができ、耐摩耗性及び耐溶着性に加えて平滑性に優れていて低摩擦係数が低いので、工具寿命が長くなる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)