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1. (WO2014154452) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/154452    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/054190
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 04.03.2014
CIB :
G03F 1/62 (2012.01), G03F 1/64 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : WILEY, James, Norman; (US).
SCACCABAROZZI, Luigi; (NL).
BROUNS, Derk, Servatius, Gertruda; (NL).
ARIAS ESPINOZA, Juan Diego; (NL).
DE WINTER, Laurentius, Cornelius; (NL).
DHALLUIN, Florian, Didier, Albin; (NL).
RIZO DIAGO, Pedro, Julian; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Peter; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/805,592 27.03.2013 US
61/884,386 30.09.2013 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is concerned with an apparatus for shielding a reticle for EUV lithography. The apparatus comprises a pellicle, and at least one actuator in communication with the pellicle, the actuator being configured to induce, in use, movement of the pellicle with respect to a reticle.
(FR)La présente invention concerne un appareil conçu pour protéger un réticule utilisé en lithographie EUV. L'appareil comprend une pellicule, et au moins un actionneur en communication avec la pellicule, l'actionneur étant conçu pour induire, lors de l'utilisation, le mouvement de la pellicule par rapport à un réticule.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)