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1. (WO2014100721) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE TRAITEMENT DE SURFACE POUR TRANSFORMATION DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/100721    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/077237
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 20.12.2013
CIB :
H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/469 (2006.01)
Déposants : INTERMOLECULAR, INC. [US/US]; 3011 North First Street San Jose, California 95134 (US)
Inventeurs : LANG, Chi-I; (US).
NIYOGI, Sandip; (US)
Mandataire : HELMS, JR., Aubrey L.; 3011 North First Street San Jose, California 95134 (US)
Données relatives à la priorité :
13/722,820 20.12.2012 US
Titre (EN) SURFACE TREATMENT METHODS AND SYSTEMS FOR SUBSTRATE PROCESSING
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE TRAITEMENT DE SURFACE POUR TRANSFORMATION DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments provided herein describe methods and systems for processing substrates. A plasma including radical species and charged species is generated. The charged species of the plasma are collected. A substrate is exposed to the radical species of the plasma. A layer is formed on the substrate after exposing the substrate to the radical species.
(FR)La présente invention concerne, dans différents modes de réalisation, des procédés et des systèmes de transformation de substrats. Un plasma comprenant des espèces radicalaires et des espèces chargées est généré. Les espèces chargées du plasma sont recueillies. Un substrat est exposé aux espèces radicalaires du plasma. Une couche est formée sur le substrat après l'exposition du substrat aux espèces radicalaires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)